Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS MOCVD HP Standard #9007740 zu verkaufen

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ID: 9007740
TXZ chambers Baratron gauge Harness cable Includes turbo pump and turbo pump controller 50' Signal cables 0240-27492 DLI on board chamber module 0010-11941 TxZ chamber assembly 0242-35908 TxZ chamber baratron kit 0021-35922 TxZ chamber body 0242-35628 TxZ chamber liner tool turbo kit 0010-36889 TxZ chamber pumping plate molded cover 0010-39306 TxZ heater left assembly 0010-08805 TxZ SAL lid assembly 0270-35134 TxZ View lid assembly 0242-35910 Window kit.
AMAT/APPLIED MATERIALS MOCVD HP Standard ist ein fortschrittlicher Metall Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) Reaktor, der für das epitaktische Wachstum von III-V-Verbindungshalbleitermaterialien entwickelt wurde. Es ist weit verbreitet, um dünne Schichten von Halbleiterverbindungen auf einem Substrat zu bauen. Der Reaktor besteht aus einer beheizten Kammer, zwei Quarzrohren und einer Reihe von Abscheidungsquellen. Die Reaktorkammer ist mit einem Ultrahochvakuum-Modus ausgestattet, wodurch eine bessere Atmosphäre für höhere Wachstumsraten geschaffen werden kann. Diese Kammer kann durch einen leistungsfähigen Zweizonen-Quarzrohrofen auf 1000 ° C erwärmt werden, wodurch dickere Folien und eine genaue Regelung der Wachstumstemperaturen möglich sind. Zusätzlich reduzieren die hochtemperaturbeständigen Wand- und Linearübertragungseinsätze den thermischen Aufwand der Kammer auf ein Minimum. Die Quarzrohre hingegen dienen der Trennung der aktiven und passiven Zonen des Reaktors. Darüber hinaus ermöglichen sie eine präzise Verteilung des Reaktanden über das Kammervolumen, wodurch ein gleichmäßiges Wachstum erhalten bleibt. Der Quellensatz umfasst auch eine injizierte Quelle für Pellets und eine Elektronenstrahlquelle für Einzelquellenmaterialien. Der AMAT MOCVD HP Standard verfügt zudem über eine große Wachstumsfläche, wobei die Kammerwände ständig überwacht werden, um ein drahtweises Ätzen zu verhindern. Dies geschieht durch die effiziente Druckregelung, zusammen mit verschiedenen Arten von Schutzmaterialien. Um weiterhin gute Ergebnisse zu gewährleisten, erfolgt die Aktivierung der Ausgangsmaterialien nach eingehender Analyse der Dotierungskonzentration in der Probe. Abschließend ist der APPLIED MATERIALS MOCVD HP Standard ein fortschrittlicher Reaktor, der für ein hocheffizientes epitaktisches Wachstum von III-V-Verbindungshalbleitermaterialien geeignet ist. Es umfasst eine Ultrahochvakuumkammer, leistungsstarke Quarzröhren und eine Reihe von Abscheidungsquellen sowie verschiedene Schutzmaterialien und -systeme, um die Qualität der Proben zu maximieren.
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