Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ Oxide chamber for Centura #293656085 zu verkaufen

AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS MxP + Oxidkammer für Centura ist ein kritisches Gerät in der Halbleitertechnik. Dieser Reaktor dient zur hochpräzisen Abscheidung verschiedener Oxide und Nitride in der Halbleiterherstellung. Es ist mit einem hohen Durchsatz und maximaler Zuverlässigkeit ausgelegt, um konsistente Ergebnisse in der Produktion zu erzielen. Die MxP + Oxidkammer besteht aus einem Gehäuse aus Edelstahl, das den Abscheideprozess beherbergt. Der Prozess wird mit einem PECVD-Controller verwaltet, um die richtigen Voraussetzungen für eine erfolgreiche Ablagerung zu gewährleisten. Innerhalb des Reaktors wird ein Quarzrohr zur Aufnahme der Zielmaterialien zur Oxidation angeordnet. Dies geschieht in Kombination mit einem Gasfördersystem zur Ablagerung der gewünschten Materialien. Dies kann von Wolframsilikaten bis zu phosphordotierten Oxiden reichen. Die MxP + Oxidkammer ist für hohe Seitenverhältnisse ausgelegt und wird durch ein eigenes Kühlsystem gekühlt. Es hat eine Zweipunkt-Temperaturregelung und bietet auch einen Temperaturbereich von -60 ° C bis 400 ° C. Der Reaktor hat auch eine Vakuumpumpe, um eine bessere Abscheidung zu gewährleisten. Zur weiteren Gewährleistung einer konsistenten Abscheidung ist die MxP + Oxidkammer mit einem Restgasanalysator ausgestattet, der das Vorhandensein von Gasen überprüft. Der Betriebsdruck wird durch einen Ionenmesser überwacht und durch eine Turbo-Molekularpumpe gesteuert. Die MxP + Oxidkammer arbeitet mit prädiktiver Software, die Prozessmodellierungsmechaniken verwendet, um dem Reaktor eine bessere Kontrolle während der Produktion zu geben. Diese Software wird ständig aktualisiert, um den Marktbedürfnissen immer einen Schritt voraus zu sein. AMAT MxP + Oxidkammer für Centura ist ein wesentlicher Baustein für eine erfolgreiche Abscheidung von Materialien in der Halbleiterindustrie. Dieser Reaktor soll nicht nur den Durchsatz erhöhen, sondern auch zuverlässige Ergebnisse liefern. Durch die Optimierung von Druck, Temperatur und Restgaskonzentration ist die MxP + Oxidkammer in der Lage, die genaue Abscheidung bereitzustellen, die die Halbleiterindustrie benötigt.