Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ #293749249 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS MxP + ist ein Plasma Enhanced CVD (PECVD) Single Wafer Reaktor der nächsten Generation für fortgeschrittene dielektrische und metallische Filmabscheidung. Die Ausrüstung wurde gebaut, um kostengünstige Cluster-Werkzeugfertigungsfähigkeiten für eine enge Prozesssteuerung und optimierte Geräteparameter zur Verfügung zu stellen, die zu überlegener Folienqualität führen. AMAT MxP + -Reaktor nutzt Elektronen-Zyklotron-Resonanz (ECR) -Plasmaquellen, um ein hochdichtes Mantelpotential zu erzeugen, wodurch größere ionisierte Spezies aus dem Plasma entkommen und in die Niederdruckabscheidungskammer gelangen können. Dieses Mantelpotential verhindert auch, dass Elektronenausgänge aus der Kammer austreten, wodurch ein höherer Ionenbeschussdruck entsteht. Darüber hinaus ist seine einzigartige Flüssigkeitseinspritztechnologie in der Lage, die Dichten von Ionen auf dem Wafer für optimale Abscheidungsdicke, Haftung und Ebenheit genau zu steuern. Das System verfügt auch über niedrige Betriebskosten und eine dicht verschlossene Vakuumkammer, um Kontaminationen zu minimieren und einen konsistenten Prozess zu erhalten. ANGEWANDTE MATERIALIEN MxP + -Reaktor kann verwendet werden, um hochwertige dielektrische Filme wie ALD, High-K und Low-K-Materialien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, Schrittabdeckung und ausgezeichneter thermisch/mechanischer Eigenschaftenverteilung abzuscheiden. Darüber hinaus ist der Reaktor in der Lage, metallische Folien wie Aluminium, Kupfer und Wolfram abzuscheiden, was einen höheren Schutz vor Elektromigration und verbesserter Leitfähigkeit ermöglicht. Darüber hinaus eignet sich der MxP + -Reaktor gut für den Einsatz in Halbleiter-MEMS und Optoelektronik-Anwendungen. Neben den verbesserten PECVD-Funktionen verfügt das Gerät auch über mehrere erweiterte Sensoren für die vollständige Prozessüberwachung und -steuerung. Dazu gehören Maßnahmen für Ionenenergie, Ionenenergieverteilung und Plasmadichte, die eine präzisere Abstimmung der Prozessparameter und eine effektivere Überwachung des Abscheidungsprozesses ermöglichen. Die Maschine kann auch mit externer Prozesssteuerungssoftware und automatisierten Vorschubsystemen zur verbesserten Rückkopplungssteuerung integriert werden. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS MxP + ein fortschrittlicher PECVD-Einzelwaferreaktor. Es bietet einen verbesserten Transport ionisierter Spezies zum Substrat und eine präzise Kontrolle der Plasmaparameter für eine hochwertigere Filmabscheidung. Die integrierten Sensoren ermöglichen zudem eine Echtzeitüberwachung und Rückkopplungssteuerung sowie eine dicht verschlossene Vakuumkammer, um Verunreinigungen fernzuhalten. Dies macht es zu einem idealen Werkzeug für fortgeschrittene dielektrische und metallische Filmabscheidung in Halbleiter MEMS und optoelektronischen Anwendungen.