Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ #293749250 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS MxP + reactor ist eine innovative Plasma-basierte Ausrüstung, die präzise Plasmakontrollprozesse für die Entwicklung und Herstellung von integrierten Schaltungen, Halbleitern und Optoelektronik bereitstellt. Es verfügt über fortschrittliche, robuste Plasmakontrollfunktionen, um die Waferbearbeitungsqualität bei Niederdruck- und Atmosphärendruck-Plasmaätz-, Sputter- und Abscheidungsprozessen sicherzustellen. Der AMAT MxP + -Reaktor umfasst sowohl eine Primär- als auch eine Sekundärkammer mit einer einzigartigen rotierenden Magnetronquelle, die eine Diffraktographie bietet, die den Erosionseinschlag direkt beobachtet und sowohl eine Gleichmäßigkeit als auch eine Wiederholbarkeit in den Plasmaprozessen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das APPLICATION MATERIALS MxP + System über integrierte, präzise Prozesskontrolltechnologien, um die höchste Genauigkeit von Ätz-, Abscheide- und Sputterprozessen zu gewährleisten. Das Gerät verwendet interne elektrische Diagnostik zur Präzisionsimpulssteuerung und Modulation beim Ätzen von Gerätestrukturen, kombiniert mit seiner drehbaren Quelle, ermöglicht die Optimierung von Ätzprofilen. Mit einer effektiven Reaktionskammer ist der MxP + -Reaktor eine geeignete Wahl für Ätzprozesse, die einen hohen Durchsatz, eine präzise Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit erfordern. Darüber hinaus bietet das Gerät eine Reihe von Reaktivgasen, die eine flexible Prozesssteuerung und -einstellung ermöglichen. Flexibilität bietet das Gerät auch bei der Kammerreinigung und unterschiedlichen Anwendungen. Wandkonditionierung ist mit optionaler Passivierungstechnologie erhältlich, während die minimierte Partikelerzeugung hilft, eine saubere Plasmaumgebung zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS MxP + Reaktor ist auch ideal für Sputterprozesse, da es eine große Zielfläche hat, hohe Abscheidegeschwindigkeiten bietet und für eine Vielzahl von Abscheidungsmaterialien, einschließlich hoher Seitenverhältnisstrukturen, geeignet ist. Schließlich stellt der AMAT MxP + Reaktor eine ideale Wahl dar, wenn es um reaktive Ionen- oder Plasmaabscheidungsprozesse zur Abscheidung von dünnen Schichten, Schutzschichten und Barriereschichten oder zur Änderung der Oberflächenenergie des Substrats geht. Es erreicht leicht hohe Abscheideraten und ist mit einer stöchiometrischen Steuereinheit ausgestattet, die gewährleistet, dass Vorläufer genau mit dem Sub-Lfabsedsd reagieren. Die Fähigkeit, mehrschichtige Filmablagerungen durchzuführen, erleichtert auch eine schnellere Geräteproduktion. In Summe stellt der APPLIED MATERIALS MxP + Reaktor eine leistungsfähige und zuverlässige Maschine für eine Reihe von Gerätebearbeitungsanwendungen dar, dank seiner präzisen Prozesssteuerungstechnologien, seiner hervorragenden Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit in Plasmaprozessen, der flexiblen Reaktivgasauswahl, der hohen Abscheidungsraten und der Barriereschicht.