Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS / NESLAB TiN Chamber for Endura #293660464 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/NESLAB TiN Chamber for Endura ist ein vielseitiger, hochmoderner Reaktor zur Herstellung von Materialien auf atomarer Ebene. Diese Kammer mit überlegener Kammer-zu-Kammer-Gleichmäßigkeit ist in der Lage, mit Hilfe von apt Atomic Layer Deposition (ALD) einheitliche Filme aus Titannitrid (TiN) zu liefern, einem harten Film, der auf verschiedenen Substraten aufgebracht wird. Die TiN-Kammer wurde für den Einsatz mit AMAT Endura Flaggschiffsystemen entwickelt und bietet benutzerfreundliche Funktionen, die die Belichtungszeit minimieren und die Produktivität maximieren. Die TiN-Kammer verfügt über Hightech-Software und Technologien, die Substraten verschiedener Formen und Größen bei ALD-Beschichtungen eine präzise Kontrolle bieten. Diese überlegene Technologie umfasst auch Programme, die die Gleichmäßigkeit und Zieleigenschaften des beschichteten Materials optimieren. Die entworfene TiN-Kammer zeichnet sich auch durch überlegene Gleichmäßigkeit, Temperaturregelung und hervorragende Folienqualität aus. Darüber hinaus bietet diese TiN-Kammer eine ausgezeichnete Flachheit des Wafers während der Abscheidung und gleichzeitig einen hervorragenden Wärmeübergang während des Prozesses. Die TiN-Kammer bietet hohe Abscheideläufe von bis zu 400 nm pro Stunde ohne Reduzierung der Gleichmäßigkeit. NESLAB TiN Chamber for the Endura ist die perfekte Lösung für Industrien und Forschungseinrichtungen, die fortschrittliche technologische Lösungen für die Beschichtung von Substraten mit Folien aus TiN benötigen. Diese Kammer ist ideal für mikroelektronische und optoelektronische Anwendungen, wie die Erforschung von Oxidsubstraten, Oxidhalbleitern, optischen Bauelementen und mehr. Die TiN-Kammer für die Endura-Ausrüstung ist auch für den Einsatz mit dünnen Folien mit elementspezifischen Vorläufern konzipiert. Dies hilft, einheitliche Ergebnisse und Gleichmäßigkeit der Leistung zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt die TiN-Kammer über ein integriertes Lastschloß, mit dem mehrere Wafer gleichzeitig bearbeitet werden können, wodurch der Durchsatz maximiert wird. Die AMAT TiN-Kammer für Endura bietet auch eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen, wie ein variables Gasüberwachungssystem, eine Gasspüleinheit für die sichere Substratverarbeitung, Hardwarekomponenten, die auf Dauer gebaut sind, und eine hocheffiziente thermische Maschine zur Umverteilung über die Kammer. Zusammengefasst bietet APPLIED MATERIALS TiN Chamber für die Endura eine zuverlässige und fortschrittliche Atomic Layer Deposition (ALD), die einheitliche Filme aus Titannitrid auf verschiedenen Substraten bereitstellt. Diese Kammer wurde entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren, die Belichtungszeit zu reduzieren und die Gleichmäßigkeit mit ihrer integrierten Lastverriegelung und anderen Funktionen zu gewährleisten.