Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Oxide chamber for MxP+ #293656757 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Die Oxidkammer für MxP + ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Abscheidung von dünnen Schichten aus Siliziumdioxid auf Halbleiterbauelementen verwendet wird. Die Oxidkammer verfügt über ein temperaturgesteuertes Quarzrohr, das von einem gewickelten Pt/Ti-Filament umgeben ist und eine präzise und gleichmäßige Temperaturregelung ermöglicht, während sich ein automatisch erzeugtes Plasma aus einer 13.56MHz Hochfrequenz-Stromversorgung bildet. Innerhalb der Oxidkammer werden Vorläufergase wie Silan (SiH4), Wasserstoff (H2) und Sauerstoff (O2) eingeleitet und durchlaufen das erhitzte Quarzrohr. Während die Gase weiter in das Rohr gelangen, verdampfen sie und reagieren dann zu Siliziumdioxid. Die gasförmigen Reaktionen werden durch das Plasma teilweise katalysiert. Der Reaktionsprozess zerlegt die gasförmigen Moleküle in Radikale, die bei Kollision durch Hochtemperaturoxidation, Reduktion und homogene Keimbildung schnell in Siliciumdioxid umgewandelt werden. Der Filmwachstumsprozess in der Oxidkammer ist stark reguliert, mit einstellbaren Parametern für verschiedene Prozesszyklen. Dazu gehören die Rate der Vorläufergaseinspritzung, Plasma-Ionendichte, Kammerdruck und Kühlraten. Die Steuerung dieser Parameter ermöglicht unterschiedliche Eigenschaften in den Oxidfilmen, wie Dichte, Gleichmäßigkeit, Rauheit und andere Merkmale. Die Oxidkammer wurde entwickelt, um qualitativ hochwertige, spannungsarme Oxidschichten herzustellen, und wird in vielen Branchen eingesetzt, darunter Mikroelektronik, Automobil und Luft- und Raumfahrt. Diese Art von Kammer hat sich bewährt für die Herstellung von Komponenten, die überlegene Korrosionsbeständigkeit, höhere Temperaturstabilität und eine niedrigere Dielektrizitätskonstante als andere Arten von Abscheidungsprozessen haben. AMAT Oxidkammer für MxP + ist ein vielseitiges Werkzeug für viele Anwendungen. Mit seiner zuverlässigen Leistung, kontrollierbaren Prozessparametern und Fähigkeit, Oxydfilme durchweg abzulegen, ist dieser Reaktor eine ideale Wahl für viele Typen der Silikondioxydfilmabsetzungsbedürfnisse.