Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Chamber #9186167 zu verkaufen

ID: 9186167
CVD Chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist ein Hochleistungsreaktor, der eine schnelle, präzise und genaue Verarbeitung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen bietet AMAT P5000 Chamber höchste Temperaturgleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Temperaturkontrolle für kritische Anwendungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Kammer besteht aus zwei verschiedenen Abschnitten - einem Bearbeitungsabschnitt und einer Wärmedämmkammer. Der Bearbeitungsabschnitt besteht aus einer das Substrat während der Bearbeitung aufnehmenden Vakuumkammer, einem das Substrat während der Bearbeitung tragenden Oberstufenfutter, einem unteren elektrostatischen Spannfutter zur rückseitigen Temperaturregelung und einem quarzartig ausgebildeten Suszeptor/Hubstift, der eine genaue Substratpositionierung während der Bearbeitung ermöglicht. Ebenfalls enthalten ist eine Gas-Substrat-Fördereinrichtung, die eine präzise Abgabe aller Gase an das Substrat bei unterschiedlichem Druck und Strömungen nach Bedarf ermöglicht. Die Wärmeisolationskammer stellt eine isolierte Umgebung für das Substrat bereit und ermöglicht es, die Temperatur einzelner Teile des Substrats mit größerer Genauigkeit zu steuern. Die Isolierkammer beherbergt einen einzigartigen Mechanismus, das sogenannte „Verschlusssystem“, das hilft, die Temperaturgleichförmigkeit des Substrats während der Verarbeitung in P5000 Kammer zu regulieren und aufrechtzuerhalten. Die Verschlusseinheit verschließt sich automatisch, wenn die Verarbeitung abgeschlossen ist, so dass eine optimale Umgebung für die Verarbeitung gewährleistet ist. Diese Wärmeisolierung ist auch bei Inbetriebnahme und Abschaltung der Maschine vorteilhaft, da sie die Substrat- oder Kammertemperatur auf ein Minimum reduziert. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chamber ist auch mit einer Reihe von anderen Funktionen entworfen, um eine präzise und genaue Verarbeitung zu unterstützen. Es umfasst ein automatisiertes Wafer-Transfer- und Zentrierwerkzeug, einen In-situ-Restgasanalysator, der eine präzise Gaskontrolle ermöglicht, und eine Multi-Gas-Liefervorrichtung. Die Kammer ist mit einem hochentwickelten Inertgas-Umgebungsmanagementmodell ausgestattet, das Sorgen um eine mögliche Kontamination des Substrats beseitigt. AMAT P5000 Chamber wurde entwickelt, um zuverlässige Ergebnisse und maximale Flexibilität in einer Vielzahl von Verarbeitungsanforderungen zu liefern. Seine überlegene Temperaturgleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Temperaturkontrolle macht es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich CVD, Ätzen, Oxidation, Metallabscheidung und mehr. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Kammer ist ein unschätzbares Werkzeug für jede Halbleiterherstellungsanlage, das präzise, wiederholbare und einheitliche Verarbeitungsergebnisse ermöglicht.
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