Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark I #9252520 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark I ist ein hochmoderner Dry Etch Reactor für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung. Es ist ideal für die hochpräzise Verarbeitung empfindlicher Materialien wie Metalle, Polymere oder Isolatoren. Dieser Reaktor ist so konzipiert, dass er aufgrund seiner fortschrittlichen Konstruktion und Konstruktion eine hervorragende Ätzleistung für Wafer bietet. Herzstück der Anlage ist eine einzigartige Plasmaquelle, die die Produktion von nanometergenauem partikelgesteuertem Plasma ermöglicht. Diese fortschrittliche Technologie erzeugt einheitliche Ätzprofile höchster Qualität und eine bessere Funktionssteuerung, wenn Muster mit harten Materialproblemen definiert werden. AMAT P5000 Mark I verfügt zudem über eine vollautomatische Steuerung, die wiederholbare Ätzprozesse mit hohen Erträgen liefert. APPLIED MATERIALS P5000 Mark I verfügt zudem über ein innovatives Kammerdesign, das eine erhöhte Produktivität ohne Beeinträchtigung von Stabilität oder Leistung ermöglicht. Es hat einen Niedertemperaturkörper, eine einstellbare Quellenleistung und eine effiziente Gasversorgungsstruktur. Dadurch wird sichergestellt, daß die Kammer eine überlegene Gleichmäßigkeit, geringe Partikeldichte und eine deutlich verbesserte Ätzrate aufweist. P5000 Mark I hat auch eine proprietäre Tieftemperatur-Kammerauskleidungseinheit, so dass die Kammer Temperaturen von nur 20-30 Grad Celsius erreichen kann. Diese Maschine sorgt auch für eine bessere thermische Gleichmäßigkeit, was zu höheren Plasmadichten und verbessertem hochpräzisen Ätzen führt. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark I bietet auch einen Hochleistungslader, der eine breite Palette von Teilen unterstützt, auch solche mit hoher Verschmutzung. Schließlich verfügt dieses Tool über außergewöhnliche Diagnosefunktionen und kann verschiedene Parameter identifizieren und berichten, um Leistungsprobleme schnell und effizient zu diagnostizieren und schnell zu lösen. Abschließend ist AMAT P5000 Mark I ein hochleistungsfähiger fortschrittlicher Ätzreaktor, der eine hervorragende Waferverarbeitungsleistung mit verbesserter Funktionssteuerung und verbesserten Ätzerträgen bietet. Es ist mit einer einzigartigen Plasmaquelle, einer effizienten Gasversorgung und einer Niedertemperatur-Kammerauskleidung ausgestattet, die es ermöglicht, hochgleichmäßige Nanometer-Präzisionsplasmen zu erzeugen. Es verfügt auch über hervorragende Diagnosefunktionen und einen Hochleistungslader, der eine breite Palette von Teilen unterstützt.