Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551 zu verkaufen

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ID: 9161551
Weinlese: 1995
System Singlewafer multichamber Both chemical vapor deposition (CVD) and etching Handle 8” Silicon wafer Power rack Original PC (4) chambers: (2) For CVD (C2F6, SiO2, NF3, He, and TEOS) (2) For etching (CF4, Ar, SiO2, O2) 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD Reactor ist ein intuitiver und vielseitiger Verdichtungsreaktor für eine Vielzahl von Anwendungen. Die P5000 Mark II ist ein CVD-System (Chemical Vapor Deposition) mit mehreren Prozesskammern zur Prozessoptimierung. AMAT P5000 Mark II CVD verfügt über eine Fülle von Funktionen, die präzise für effiziente und genaue Ablagerungen entwickelt wurden. Sein Mehrkammerdesign kann zur Optimierung von Prozessparametern für Anwendungen wie Barrierefolien, Hartbeschichtungen und dielektrische Folien zur Diffusionssteuerung eingesetzt werden. Die Mehrkammerkonstruktion ermöglicht für jede Kammer unterschiedliche Temperaturregelungen, die die Bearbeitung mehrerer Anwendungen und Ablagerungen gleichzeitig ermöglichen. Darüber hinaus hat APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD eine verbesserte Prozesskontrolle, da jede Prozessvariation in Abhängigkeit von den Materialeigenschaften abgestimmt werden kann. Neben seiner verbesserten Leistung sorgt P5000 MARK-II CVD auch für Sicherheit. Es ist mit einem hochauflösenden Temperatursensor und einer beheizten Abstandsregelung ausgestattet, um die Prozesskammeratmosphäre zu erhalten, um die Bedienersicherheit zu schützen und gleichzeitig eine optimale Temperaturregelung zu gewährleisten. Weitere Merkmale in P5000 Mark II CVD sind auch ein Abgasanschluss und ein geschlossenes Schleifensystem, um organische Verbindungen während des Prozesses zu überwachen und zu entfernen. Dies hilft zu gewährleisten, dass organische Abwässer nicht in die Umgebung entweichen. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD auch über einstellbare Heizelemente für optimale Leistung und Prozesssteuerung. Seine Konstruktion verfügt über eine Exo-Shell-Platte, die eine gleichmäßige Temperaturverteilung in der gesamten Prozesskammer ermöglicht, was eine verbesserte Leistung und längere Produktionsläufe ermöglicht. Zusammenfassend ist AMAT P5000 MARK-II CVD Reactor ein intuitives und effektives System für empfindliche Abscheidungen und Prozesse wie Barrierefolien, Hartbeschichtungen und dielektrische Filme. Es ist mit einer Fülle von Merkmalen wie verschiedenen Prozesskammern für die Mehrfachverarbeitung und einstellbaren Heizelementen für optimale Leistung ausgestattet. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD bietet auch Sicherheit durch den Einsatz eines Temperatursensors und geschlossener Schleifensysteme, um organische Abwässer aus der Umwelt zu reduzieren. Seine Konstruktion mit Exo-Shell-Platte sorgt für zuverlässige Prozessergebnisse und effiziente Produktionsabläufe und ist damit die ultimative Wahl für CVD-Anwendungen.
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