Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #293619352 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J ist ein spezialisierter Reaktor für eine Vielzahl von Prozessanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um die Ätz- und Abscheidungsprozesse zur präzisen Kontrolle der physikalischen und chemischen Eigenschaften der zu bearbeitenden Wafer zu optimieren. Dieser Reaktor ist für seine Genauigkeit, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit bekannt. Der Reaktor ist eine horizontal montierte Vakuumkammer, die ein Werkstück auf Siliziumbasis enthält, das entweder durch Ätz- oder Abscheidetechniken strukturiert werden kann. Seine Prozesskammer ist mit einem elektrostatischen Spannfutter zur Befestigung des Werkstücks während des Ätz- oder Abscheidevorgangs ausgestattet. Das elektrostatische Spannfutter ist in der Lage, präzisen Druck, Periodizität und Genauigkeit zu erhalten, auch wenn der Prozess schnell geschehen muss. Es verfügt auch über eine spezielle Düsendämpfungstechnik, um Vibrationen zu minimieren und präzise Ergebnisse zu gewährleisten. Bei der Abscheidung verwendet AMAT P5000 Mark II-J lineare Fassquellen und Plattenquellen, um eine gleichmäßige und präzise Dicke der Folie zu erzeugen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von fortschrittlichen Materialien abzuscheiden, einschließlich Metalle, Oxide und Nitride. Mit seiner fortschrittlichen Linearfass-Technologie ist APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J in der Lage, ein höheres Maß an Gleichmäßigkeit als herkömmliche plattenbasierte Systeme zu erreichen. P5000 Mark II-J ist auch mit fortschrittlicher Einwafer-Abscheidungstechnologie ausgestattet, die für eine dünnere Filmabscheidung notwendig ist. Diese Technik besteht aus Präzisionsventilen, Regelkreisen und Prozesskammern, die auf die Abscheidung von Metallen, Oxiden und Nitriden zugeschnitten sind. Es ist in der Lage, gleichmäßige dünne Filme mit kontrollierter Keimbildung abzuscheiden, wodurch die Möglichkeit von Defekten im Film verringert wird. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J ist in der Lage, präzise Dicke und Gleichmäßigkeit in Ätz- und Abscheidungsprozessen zu erreichen. Es verwendet fortschrittliche elektrostatische Spannfutter für Wafer-Retention, lineare Barrel Quellen für präzise Abscheidung und Single-Wafer-Abscheidungstechnologie für dünnere Filmproduktion. Dieser Reaktor ist ein zuverlässiges und präzises Werkzeug, das konsistente Ergebnisse liefert.