Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #293761841 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J ist ein fortschrittlicher Plasma Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. Dieses Modell der Baureihe P5000 soll in mittel- bis hochvolumigen Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt werden. Zu den Merkmalen dieses Reaktors gehören eine maximale Substrattemperatur von 500 ° C, eine Edelstahlverarbeitungskammer und bis zu fünf Quellgase. Durch eine Kombination aus HF-Induktionsspule und Plattenheizung wird eine gleichmäßige Temperatur über die gesamte Oberfläche des Substrats bereitgestellt. AMAT P5000 MARK II-J ist für die Abscheidung von dünnen Schichten und Dielektrika sowie anderen Materialien wie Metallen und Polysilizium konzipiert. Es verfügt über eine eigene Kammer, die auf einem Sockel montiert ist, sowie zwei separate Gaseintrittssysteme, so dass zwei verschiedene Abscheideprozesse gleichzeitig stattfinden können. Die Abscheidekammer ist mit HF-Induktionsspulen ausgestattet, die so ausgelegt sind, dass sie das Substrat gleichmäßig und schnell erwärmen, eine gleichmäßige Erwärmung des Substrats gewährleisten und eine hervorragende Temperaturregelung gewährleisten. Der Reaktor ist für hohen Durchsatz und Zuverlässigkeit ausgelegt und bietet eine Auswahl von bis zu fünf Quellgasen, darunter O2, H2 und die Seltengas-Halogenidquellgase. Beim Einbringen dieser Gase reagieren sie mit einer Schicht des Substratmaterials, wodurch es zerlegt und anschließend abgeschieden wird. Es entsteht je nach verwendetem Quellgas ein dünner Film oder dielektrisches Material. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 MARK II-J Reaktor ist auch mit einer interaktiven benutzerfreundlichen Schnittstelle und Bedienfeld ausgestattet. Auf diese Weise wird eine Plattform geschaffen, auf der Benutzer die Bedingungen innerhalb der Kammer wie Gasfluss, Gasdrücke, Temperatur und Filmdicke überwachen sowie den Reaktor für einen bestimmten Prozess einrichten können. Darüber hinaus ermöglicht das Panel die Ausgabe von Daten an einen Remote-Computer, entweder über Ethernet oder eine RS232-Verbindung. P5000 Mark II-J ist ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der hochwertige Dünnschichten und Dielektrika mit sehr hohem Durchsatz herstellen kann. Seine Temperatursteuerungsfunktionen und seine benutzerfreundliche Schnittstelle machen es zu einer bevorzugten Wahl für Halbleiterherstellungsanwendungen.
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