Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9051380 zu verkaufen
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ID: 9051380
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
CVD Systems, 8"
(3) Chambers
Wafer type: Notch
Vacuum processing type
MFC:
Gas #1: SIH4 200 sccm
Gas #2: N2 10 slm
Gas #3: NH3 100 sccm
Gas #4: NF3 1 slm
Gas #5: N2O 3 slm
Gas #6: CHF4 3 slm
Gauges:
(2) MKS 122BA Baratron, 10 torr
MKS 628A Baratron, 10 torr
Includes:
AD TEC Generator AX-1000AM2
AMAT Matcher
AC Rack
Gas box
(2) Chillers
Heat exchanger
(3) Dry pumps
Mainframe
PC Rack
GEN Rack
(2) Regulator boxes
(2) FAPC Racks
(9) Accessory boxes
(2) Power boxes
(3) RF Power supplies
AMAT-0 H / E
(2) Panels
(3) Columns
Abatement system
(2) Column boxes
(3) Abatement filter
Transformer
(3) Gas detectors
Currently stored in cleanroom
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J Reaktor ist ein robustes und leistungsstarkes PECVD-Gerät zur Abscheidung von dielektrischen, Halbleiter- und Metallfilmen. Dieser Reaktor ist mit einer Hochfrequenz (RF) -Stromquelle ausgestattet und kann Filme bei reduzierter Leistung abscheiden, um die Materialkosten drastisch zu senken. Es ist für die Herstellung von Halbleiterbauelementen konzipiert und eignet sich sowohl für den Einsatz in Forschungslabors als auch in industriellen Fabs. AMAT P5000 Mark II-J nutzt ein Single-Wafer-Design, um zuverlässige und einheitliche Folieneinheitlichkeit bei ausgezeichneter Wiederholbarkeit auf jedem Wafer zu bieten. Das Design ermöglicht eine vollständige Gleichmäßigkeit, die eine bessere Leistung als andere Systeme ermöglicht. Dieses System mit zwei kalten Wänden ist in der Lage, hochwertige, spannungsarme Filme mit überlegener Packungsdichte beim Abscheiden von dielektrischen und Halbleitermaterialien auf dem Wafer zu erzeugen. Es ist auch in der Lage, Metalloxide durch metall-organische chemische Aufdampfung (MOCVD) abzuscheiden. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II-J ist mit fortschrittlichen Glühfunktionen ausgestattet, um die Prozesskontrolle sicherzustellen. Das Gerät bietet eine einheitliche Temperaturregelung mit aktiver Temperaturüberwachung und einem eingebetteten Regler für verbesserte Temperaturgenauigkeit. Es ist auch mit einer integrierten entfernten Kammer für zusätzliche Überwachungs- und Diagnosefunktionen konfiguriert. Das Design bietet zudem eine hervorragende Effizienz, da es die Filmabscheidungsraten bis zu 20 nm/min bei gleichbleibender Gleichmäßigkeit über Wafer maximiert. P5000 Mark II-J ist mit einer robusten Prozesskammer und einem modularen Aufbau mit einfacher Wartung ausgelegt. Dies ermöglicht schnelle Reparaturzeiten und minimale Ausfallzeiten. Die Maschine wird auch mit einer Reihe von Zubehör geliefert, darunter ein automatisierter Scanner, eine HF-Quelle, ein ultraempfindlicher optischer Sensor und eine Hilfsgasversorgung. Die Kombination aus fortschrittlichen Überwachungs- und Diagnoseeigenschaften, robustem Design und hoher Leistung machen AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J zu einem leistungsstarken und zuverlässigen Reaktor für Anwendungen wie Halbleiterbauelemente, dielektrische Filme und Metalloxidabscheidung.
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