Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9383810 zu verkaufen

ID: 9383810
CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J Reaktor ist ein hocheffizienter und vielseitiger Abscheidungsreaktor, der für überlegene Leistung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen Anwendungen entwickelt wurde. Seine zahlreichen Eigenschaften ermöglichen eine präzise Kontrolle verschiedener Materialeigenschaften wie Kristallstruktur, Oberflächenrauhigkeit und Nanopartikelabscheidung. Dieses Gerät verfügt über eine vakuumdichte Warmwandprozesskammer, die von kleinen Testbereichen bis zu großen Bearbeitungswafern in der Größe reichen kann. Es verfügt über ein vollständig einstellbares, präzises Gasfördersystem und integrierte Computersteuerungsmodule zur präzisen und einfachen Einstellung aller Parameter für jeden Prozess. Seine inerte Atmosphäre Steuerung sorgt für sauberen Betrieb durch die Vermeidung von Verunreinigungen aus der Atmosphäre. Die in diesem Reaktor eingesetzte fortschrittliche Technologie ermöglicht eine hochwertige Filmabscheidung, einschließlich Silberfolien, dielektrischen Schichten und metallorganischen chemischen Aufdampfschichten. Die Dünnschichtabscheidung kann entweder durch thermisch induzierte physikalische Aufdampfung oder durch ionenunterstützte Abscheidung erfolgen. Letztere Technik führt zu gleichmäßigeren und präziseren Ergebnissen, indem eine entfernte Hochfrequenz-Plasmaquelle verwendet wird, um die Abscheidung von Verunreinigungen auf der Oberfläche des Substrats zu reduzieren. Dieses Verfahren wurde erfolgreich bei der Herstellung von Dünnschichttransistoren, der Metallhärtung, dem Oberflächenschutz und der Abscheidung von Metall- und Isolatordünnschichten eingesetzt. Die überlegene Steuerung dieser Einheit ermöglicht Prozessmerkmale mit Nanometergenauigkeit. Außerdem eignet sich die Gleichmäßigkeit der hergestellten Folienschicht gut für komplexe Muster auf Wafern. Auch der AMAT P5000 Mark II-J Reaktor liefert hervorragende elektrische Eigenschaften und Haftung auf der Folienschicht. Es verwendet eine umfassende Reihe von Kontrollen, um Temperatur, Durchfluss, Druck und pH-Wert des Abscheidungsprozesses anzupassen, wodurch Benutzer die vollständige Kontrolle über die Abscheidungsergebnisse erhalten. Ein weiterer großer Vorteil dieser Maschine ist ihre Robustheit gegen Korrosion. Seine langlebige Konstruktion gewährleistet einen zuverlässigen Betrieb und einen geringen Bedarf an Wartung und Ergänzung. AMAT/APPLIED APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J reactor ist mit seinen vielfältigen Eigenschaften und seiner präzisen Verarbeitung eine ideale Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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