Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9389976 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK II-J ist ein hochmoderner Multichamber Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) Reaktor, der zur Herstellung von dünnen Filmen und Schichten aus hochreinen, hochleistungsfähigen Halbleitermaterialien, wie Galliumarsenid (GaOsphp) und Indiphid (Indip) AMAT P5000 Mark II-J kann Schichten von Materialien auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 4,7 Zoll abscheiden und bietet eine breite Palette von Prozessgasen und Temperaturen. Das schrankartige, vertikale Design von APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J bietet eine Vielzahl von Konfigurationen, einschließlich Einzelakkumulatoren und Ringreaktoren. Die fortschrittliche, thermisch gesteuerte Verfahrenstechnik arbeitet bei Temperaturen bis zu 1100C, um ultradicke, defektarme Folien zu erzielen. P5000 Mark II-J ist für maximale Produktionsausbeuten ausgelegt, wobei der Durchsatz und die Kapazität durch den Einsatz fortschrittlicher Komponenten und einen optimierten Gasfluss erhöht werden. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J hat auch mehrere Funktionen, um genaue Prozessergebnisse zu gewährleisten. Ein thermisches Sensorarray misst die Temperatur der Abscheidekammer und ist so programmiert, dass eine genau gesteuerte homogene Temperatur über die Waferoberfläche aufrechterhalten wird. Ein integriertes Gasrückkopplungssystem sorgt für eine zuverlässige, genaue Kontrolle des Prozesses und hilft, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. AMAT P5000 Mark II-J bietet darüber hinaus eine Reihe fortschrittlicher Sicherheitsmerkmale, wie ein Hochtemperaturabsperrventil und eine Auspuffpatrone, um während des Abscheidungsprozesses entstehende Gase oder Dämpfe zu entfernen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II-J können im direkten oder entfernten Modus betrieben werden, wodurch Benutzer ein Maß an Flexibilität erhalten. Eine eingebaute Heizung und ein Ventilator sorgen für zusätzliche Sicherheit während des Betriebs. Zusammenfassend ist P5000 Mark II-J ein hochentwickelter und zuverlässiger MOCVD-Reaktor, der zur Herstellung dünner Filme und Schichten aus hochreinen, hochleistungsfähigen Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Es bietet eine breite Palette von Prozessgasen und kontrollierbaren Temperaturen sowie Funktionen wie ein thermisches Sensor-Array, ein geschlossenes Gas-Feedback-System und eine eingebaute Heizung und Lüfter für die Sicherheit während des Betriebs.