Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+ #9082547 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+
ID: 9082547
Wafergröße: 8"
Oxide etcher, 8" (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP + ist eine hochleistungsfähige, Mehrkammer-Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) Reaktorausrüstung. Es ist die nächste Generation von AMAT P5000 Serie von fortschrittlichen Plasmasystemen, gebaut, um die höchste Qualität der Abscheidung von dünnen Schichten zu liefern, einschließlich Oxide, Nitride und Siliziumcarbid (SiC), Halbleiterscheiben bis 200 mm im Durchmesser. AMAT P5000 Mark II MxP + ist ein vollautomatisches Mehrkammersystem, das fortschrittliche Plasmatechnologie und fortschrittliche Prozesssteuerungsfunktionen verwendet, um eine konsistente Filmabscheidung auch auf den dünnsten Halbleiterscheiben zu ermöglichen. Das Gerät besteht aus einer Reihe einzigartiger Komponenten, die harmonisch zusammenarbeiten, um dem Benutzer maximale Flexibilität und Leistung zu bieten. Herzstück der Maschine ist die integrierte Mehrkammer-Plasmaquelle, die je nach Substratanforderung Plasmen mit einem Frequenz- und Leistungsbereich erzeugen kann. Dieses Bauteil ermöglicht höhere Abscheideraten und Gleichmäßigkeit, wodurch das Werkzeug auch auf die dünnsten Substrate anwendbar ist. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II MXP + ist mit einem Hochdruck-Lieferbestandteil für eine überlegene Prozesskontrolle ausgestattet, die Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer gewährleistet. Sein integriertes geschlossenes Modell kann auch Prozessparameter erfassen und Anpassungen vornehmen, um Inkonsistenzen, wie Temperaturschwankungen, die während des Abscheideprozesses auftreten können, zu berücksichtigen. Die mitgelieferte Automatisierungsausrüstung bietet eine einheitliche Benutzeroberfläche, die die Betriebsparameter Konfiguration und Prozesssteuerung vereinfacht. Das System enthält erweiterte Software-Tools und benutzerfreundliche Rezepte, mit denen Benutzer ihre Prozessparameter und Einstellungen an ihre genauen Spezifikationen anpassen können. Darüber hinaus umfasst das Gerät eine Reihe von Zusatzoptionen, wie eine fortschrittliche Gasliefermaschine (GDS) und eine sprühbare Gasversorgung, die eine weitere Anpassung und maximale Vielseitigkeit bieten. Mit diesen Add-Ons können Benutzer das Tool ganz einfach so konfigurieren, dass es ihren spezifischen Prozessanforderungen entspricht, sodass sie ihre Ablagerungsergebnisse optimieren können. P 5000 MARK II MXP + ist hocheffizient und bietet hohe Präzision und Wiederholbarkeit für alle Abscheideprozesse. Dieses Asset ist eine großartige Option für Benutzer, die nach einer hochleistungsfähigen, kostengünstigen Mehrkammer-PECVD-Lösung suchen, und seine vielen fortschrittlichen Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für diejenigen, die qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen möchten.
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