Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+ #9082548 zu verkaufen

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ID: 9082548
Wafergröße: 6"
Metal etcher, 6" (2) Chambers 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP + ist ein Einzel-Wafer, 400 mm PECVD (Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition) Reaktor, der für hochvolumige Abscheidungsprozesse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist mit überlegener Prozessgleichförmigkeit, einer breiten Palette von Prozessfähigkeiten und erweiterten Automatisierungsfunktionen ausgestattet, so dass es komplexe Ablagerungsverfahren bewältigen und schnelle Produktionszeiten ermöglichen kann. AMAT P5000 Mark II MxP + nutzt eine einzigartige Single-Wafer, fortschrittliche Cluster-Tool-basierte Technologie. Dieses Design zeichnet sich durch schnelle Betriebsgeschwindigkeiten, ausgezeichneten Produktionsdurchsatz und überlegene Prozessgleichförmigkeit aus. Die Single-Wafer-Technologie beseitigt die Probleme im Zusammenhang mit dem Wafer-Handling und ermöglicht ein hohes Maß an Prozesswiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Die Ausrüstung nutzt eine flexible, modulare Plattform, die eine breite Palette von Prozessfähigkeiten bietet. Die Modul-pro-Wafer-Technologie ermöglicht die Behandlung von Substraten mit unterschiedlichen Prozessparametern und ermöglicht es dem Anwender, mehrere Wafer-Prozesse wie Ätzen, Abscheiden und Ablation gleichzeitig durchzuführen. APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II MXP + bietet auch erweiterte Automatisierungsfunktionen. Die integrierte Automatisierungssoftware ATHENA vereinfacht komplexe Abscheideprozesse und ermöglicht die Automatisierung und Integration mehrerer Prozesse mit anderen Geräten, wie Inspektions- und Messtechnik-Tools. ATHENA bietet auch erweiterte Funktionen zur Wafer-Verfolgung und Datenanalyse, wodurch die Überwachung von Prozessdaten in Echtzeit erleichtert wird. Das System verfügt außerdem über eine umfangreiche Palette an Zubehör, einschließlich Prozess- und Diagnosekammern, Endeffektoren und eine Ausrichteinheit, die dazu beitragen, die Verarbeitungszeiten zu reduzieren, den Durchsatz der Maschine zu verbessern und ihre Lebensdauer zu verlängern. Darüber hinaus ist das Tool unter Berücksichtigung der Sicherheit konzipiert und soll die strengen Sicherheitskriterien erfüllen, die im Verhaltenskodex der Europäischen Union dargelegt sind. AMAT P 5000 MARK II MXP + ist ein fortschrittliches PECVD-Asset mit einem Wafer von 400 mm, das für komplexe Abscheidungsprozesse entwickelt wurde und sich perfekt für Serienumgebungen eignet. Dieses Modell bietet eine Reihe von Prozessfähigkeiten, schnelle Verarbeitungsgeschwindigkeiten, überlegene Prozessgleichmäßigkeit und fortschrittliche Automatisierung, was es zu einer idealen Wahl für die moderne Halbleiterherstellung macht.
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