Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293596177 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist eine produktionsfähige CVD-Plattform (Chemical Vapor Deposition) mit mehreren Quellen und Prozessen in einer einzigen Kammer. Der AMAT P5000 Mark II Reaktor bietet eine hohe Abscheiderate, kontrollierte Gleichmäßigkeit und einen reibungslosen Prozessauftrieb, der eine Vielzahl von industriell relevanten Materialien aufnimmt. Die Ausrüstung kann eine breite Palette von Materialsystemen handhaben und ist erwiesen, glatte und gleichmäßige Schichten zu produzieren, auch auf Nanometerwaagen. Angewandte Materialien P 5000 MARK II System ist für Verfahrenstechnik und fortschrittliche Anwendungen konzipiert. Zu den Hauptmerkmalen gehören eine große 4-Zoll-quadratische Kammer, ein Mittelfrequenz-ECR-Plasma, ein dielektrisches Entladungsplasma und ein Gaspanel mit hoher Kapazität, das alle in einer Einheit untergebracht ist und eine überlegene Gleichmäßigkeit und Konsistenz ermöglicht. Die Maschine bietet auch schnelle Prozesssteigerung, verbesserte Verschmutzungssteuerung und Effizienz bei der Herstellung von hochwertigen Folien, einschließlich mehrerer Schichten von leitfähigen und isolierenden Folien. Dieses Modell bietet überlegene Gleichmäßigkeit, schnelles Hochfahren des Prozesses und eine überlegene Kontaminationskontrolle, die komplexe Abscheidungsschritte und eine verbesserte Folienqualität ermöglicht. Eine Vielzahl von Verfahren sind auf AMAT P 5000 MARK II Werkzeug, wie chemische Dampfabscheidung, atomare Schichtabscheidung und andere verfügbar. Das Asset umfasst auch ein integriertes Gasliefermodell mit überlegenen Reinigungsmanagements, Dual Source Control und Sequence Control. Das Gerät ist mit einer integrierten Megahertz-Rate-Schnittstelle und einem digitalen Quadranten-Display ausgestattet, das die Prozesssteuerung gewährleistet und die Einrichtung von Prozessfenstern und -ebenen unterstützt. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II Reaktor ist ein ideales Werkzeug für Forschung und Entwicklung und bietet die Genauigkeit und Agilität, die für die Wirtschaftlichkeit bei der Herstellung von fortschrittlichen und komplexen Folien erforderlich sind. Es bietet einen hohen Durchsatz und beispiellose Gleichmäßigkeit über große Bereiche, so dass Benutzer mehrere Schichten von Filmen mit unendlicher Kontrolle über Gleichmäßigkeit, Dicke und Strukturen zu produzieren. Das System erfüllt die Anforderungen einer breiten Palette an Nanofabrikation und Materialinnovationen und ermöglicht es Forschern, neue Anwendungen für Halbleiter-, Festplatten- und optische Speichergeräte zu entwickeln.