Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9044020 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein revolutionärer Reaktor für die chemische Verarbeitung in der Halbleiterindustrie. Es ist mit einer chemischen Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung gebaut, die isotropes Trockenätzen von Waferoberflächen ohne die Notwendigkeit einer nassen chemischen Ätzung ermöglicht. Der Mark II verfügt zudem über ein einzigartiges Doppelkammerdesign, das es ermöglicht, zwei verschiedene Prozesse gleichzeitig durchzuführen - einen in jeder Kammer. Dadurch wird die Effizienz des gesamten Prozesszyklus erhöht, höhere Ausbeuten erzielt und Zykluszeiten reduziert. AMAT P5000 Mark II ist mit zwei Reaktionskammern ausgestattet, die jeweils gasdicht, temperaturgeregelt und von unabhängigen Stromversorgungen gespeist werden. Darüber hinaus verfügt die Kammer über eine High-End-Inertatmosphäre, die eine Vielzahl von Prozesschemien ermöglicht, einschließlich Sauerstoff und Plasma-basiertes Ätzen. Diese Reaktionskammern sind aus einem hochtemperaturbeständigen Edelstahl aufgebaut, der auch bei extremen Verarbeitungsbedingungen eine überlegene Leistung gewährleistet. Darüber hinaus sind die Kammern in der Lage, eine breite Palette von Suszeptor-Größen aufzunehmen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II bietet auch ein fortschrittliches Temperaturregelsystem für präzise Temperatureinstellungen. Diese Einheit ist mit einem Temperaturregler, einer Datenerfassungsmaschine und einer programmierbaren Logiksteuerung (SPS) zur Prozesssteuerung ausgestattet. Darüber hinaus bietet das P5000 mehrere Sicherheitsmerkmale, wie Gasleitungsabschalter und Not-Aus-Tasten, um die Prozesssicherheit zu gewährleisten. In Bezug auf Abscheidungstechnologien bietet P 5000 MARK II die Fähigkeit, dünne Filme im Bereich von 750 nm bis 1,5 Mikrometer abzuscheiden. Es bietet auch hervorragende Kristallqualität, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine Hochtemperaturabscheidungsumgebung, die eine überlegene Prozesskontrolle und Ausbeute gewährleistet. Darüber hinaus ermöglicht es die Kompatibilität mit niederdruckchemischen Aufdampfverfahren (LPCVD) und Atomic Layer Deposition (ALD). Zusammenfassend ist P5000 Mark II ein fortschrittliches Halbleiterverarbeitungswerkzeug, das eine hervorragende Leistung und Prozesssteuerung bietet. Sein einzigartiges Dualkammer-Design und seine fortschrittliche Temperaturkontrolle machen es ideal für viele verschiedene Arten von Hochleistungsprozessen. Darüber hinaus ist es aufgrund seiner Flexibilität und Leistung eine ausgezeichnete Wahl für den Einsatz in verschiedenen Halbleiterherstellungseinstellungen.