Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9081647 zu verkaufen

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ID: 9081647
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
CVD System, 8" (4) Chambers (2) TEOS Chambers with O3 (2) Sputter chamber 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein reaktiver Ionenätzer (RIE) - eine Art Plasmareaktor, der für die Mikrofabrikation elektronischer Bauelemente, insbesondere zur Erstellung nanoskaliger Merkmale, verwendet wird. Dieses Werkzeug ermöglicht das präzise Ätzen von Dünnschichtmaterialien mit sehr hoher Auflösung und ausgezeichneter Kontrolle über die Plasmaparameter. Zu den Hauptkomponenten des Systems gehören eine Vakuumkammer, eine Antenne zur Erzeugung von Hochfrequenzradiowellen, ein Reaktionsrohr, ein Gaseinlaß und -auslaß sowie ein Regler. AMAT P5000 Mark II nutzt Hochfrequenzplasmen, um reaktive energetische Spezies innerhalb der Vakuumkammer zu erzeugen. Im Plasma erzeugte reaktive Spezies reagieren mit den Gasmolekülen und werden entlang des Reaktionsrohres durch ein durch die Metallantenne erzeugtes elektrisches Feld beschleunigt. Energiereiche Spezies, die auf das Werkstück gerichtet sind, reagieren mit der Oberfläche und ätzen Dünnschichtmaterialien. Das Werkzeug ist so konzipiert, dass es einfach gewartet und kalibriert werden kann und verfügt über einen Monitor, der an das System angeschlossen ist, um wichtige Parameter wie Gasdruck, Temperatur und Leistung zu verfolgen. Mit einem Betriebstemperaturbereich von 5 bis 80˚C und einem Druckbereich von 1,3 bis 1000 mTorr eignet sich APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II für verschiedenste Materialien und Verfahren. Die eingesetzten Leistungs-, Reaktionschemie- und Verarbeitungsbedingungen können für unterschiedliche Materialien optimiert werden, was sehr hohe Ätzraten, eine hervorragende Auflösung und Kontrolle der Nanostrukturtopographie ermöglicht. Das System verfügt zudem über einen programmierbaren Autofokus, der beim Ätzen einen konstanten Reaktionsdruck von bis zu 50 mTorr aufrechterhalten kann. AMAT P 5000 MARK II ist ideal für die Mikrofertigung von elektronischen Bauteilen, nanoskaligen Eigenschaften und dünnen Schichten mit hoher Auflösung, hoher Präzision und ausgezeichneter Kontrolle über die Plasmaparameter. Das Werkzeug ist sehr zuverlässig und kostengünstig, mit verbesserter Produktivität und wiederholbarer Leistung.
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