Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9097804 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9097804
PECVD System
Process: PO Nitride
(2) DCVD-LH Lamp heated chambers
8-Slot wafer storage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein Halbleiterherstellungsreaktor, der bei der Herstellung fortschrittlicher mikroelektronischer Bauelemente verwendet wird. Diese Anlage ermöglicht die Abscheidung von ultradünnen Oxidfilmen auf Halbleiterscheiben durch einen atomaren Abscheidungsprozess. Diese Technologie kann bei der Massenproduktion von Halbleiterbauelementen wie Transistoren, Katalysatoren und Anzeigekomponenten eingesetzt werden. AMAT P5000 Mark II ist ein Hochdurchsatz-Vakuumabscheidungssystem. Es verfügt über eine Lastschloßkammer mit einer 6-Zoll-Waferkapazität und kann bis zu 100 Wafer pro Stunde verarbeiten. Die Einheit verwendet Elektronenstrahl-Verdampfungstechnologie, um die Gleichmäßigkeit der Oxidabscheidung über die Oberfläche aller Wafer zu gewährleisten. Dieses hochpräzise Verfahren hat den Vorteil, dass Folien mit geringer Rauhigkeit und ausgezeichneter Durchdringungsgleichförmigkeit hergestellt werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II verwendet ein Argon-Ionenquellen-Ion, um den Film auf Wafer zu sputtern. Dieses Sputterverfahren in Kombination mit der Elektronenstrahlverdampfung ermöglicht eine gleichmäßige Abscheidung der Folien über einen weiten Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 1000 ° C. Diese hohe Temperaturkapazität ermöglicht eine schnelle und effiziente Abscheidung von Nitriden, Oxiden, Siliziden und Verbundfolien. Das Verfahren liefert auch Filme mit hoher Reinheit und geringen Defekten, was zu einer höheren Ausbeute an brauchbaren Halbleiterteilen führt. Das Design von P 5000 MARK II sorgt auch dafür, dass nasse und trockene Filme für die nächste Verarbeitungsstufe bereit sind, was die gesamte Produktionszykluszeit verbessert. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II ist mit einem Präzisionsquarzmonitor und Controller ausgestattet. Dies hilft, die Qualität des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten, indem die Energie des Ionenstrahls, der Strahlleistung, des Einfallswinkels und anderer Prozessparameter gesteuert wird. Die Maschine ist auch mit einer erweiterten grafischen Benutzeroberfläche (GUI) für einfache Bedienung und Steuerung ausgestattet. APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein hocheffizientes und vielseitiges Werkzeug zur Herstellung von Halbleitern und anderen fortschrittlichen mikroelektronischen Bauteilen. Dieser Reaktor bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit der Abscheidung über alle Wafer und ermöglicht eine schnelle und gleichmäßige Verarbeitung einer breiten Palette von Materialien. P5000 fortschrittliche Steuerungstool und benutzerfreundliche GUI von Mark II bieten Anwendern eine zuverlässige und effiziente Verarbeitungslösung, die Ausbeute und Qualität aller Halbleiterbauelemente optimiert.
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