Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9153739 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II
ID: 9153739
Wafergröße: 8"
PVD System, 8" (3) Chambers / TEOS MXP Oxide chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein Hochleistungs-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der weitgehend in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist eine plasmaverbesserte CVD-Kammer, die eine hochwertige, leistungsstarke Umgebung für den Anbau fortschrittlicher Halbleitermaterialien bietet. Das System besteht aus einer Hauptkammer, einem Substratfutter, einer Duschkopfanordnung und einer Plasmaquelle. Die P5000 Hauptkammer ist mit einer Edelstahl-Vakuumkammer, einer wärmeisolierenden Auskleidung und einer speziellen ätzfesten Deckschicht ausgebildet. Sein Aluminium-Substratfutter sorgt für eine präzise Temperaturregelung und eine gleichmäßige Erwärmung, um eine qualitativ hochwertige Filmabscheidung zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einer aktiv gekühlten Kuppelschaufelanordnung ausgestattet, die eine verbesserte Leistung, Temperaturhomogenität und gleichmäßige Substrattemperatur bietet. Die Duschkopfbaugruppe, bestehend aus einem Gasinjektor, ist mit einer Vielzahl von Quarzduschkopfeinsätzen sowie Kassettenmasken und Metallmaschen ausgestattet. Dies ermöglicht eine genaue Kontrolle der Wachstumsrate und Zusammensetzung der abzuscheidenden Folie. Die Duschkopfanordnung verdoppelt sich auch als Suszeptor für die Plasmabehandlung des Wafers. Die Plasmaquelle für die P5000 ist ein 13,56 MHz induktiv gekoppelter HF-Generator. Er versorgt die Kammer mit HF-Strom, wodurch das Halbleitermaterial erregt und ionisiert werden kann. Der HF-Generator ist auch dynamisch abstimmbar, was eine präzise Kontrolle der Abscheidung, Oxidation und Ätzprozesse ermöglicht. AMAT P5000 Mark II ist ein fortschrittlicher, hochmoderner CVD-Reaktor, der eine präzise Kontrolle über die Filmabscheidung, eine einheitliche Substratheizung und -kühlung und eine dynamische Plasmaquellenabstimmung kombiniert, um eine überlegene Zuverlässigkeit, einen hohen Durchsatz und eine hervorragende Filmqualität zu bieten. Es ist ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterindustrie und bietet eine konsistente und zuverlässige Plattform für die Erforschung und Entwicklung fortschrittlicher Materialien.
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