Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9193242 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein High-Density Plasma Reaktor, der bei der Herstellung von IC-Geräten verwendet wird. Der Reaktor besteht aus mehreren Kompartimenten, darunter der Plasmaquelle, der Prozesskammer, der Gasverteilereinrichtung und dem Vakuumsystem. Die Plasmaquelle verwendet Mikrowellenenergie, typischerweise 2,45 GHz, um ein energetisches Plasma in der Prozesskammer zu erzeugen. Dieses Plasma wird als Produktionsmedium für IC-Komponenten verwendet. Die im Vakuum eingeschlossene Prozesskammer arbeitet typischerweise bei Drücken zwischen 10 und 12 mTorr. Innerhalb der Prozesskammer befindet sich der Substrathalter, in dem die IC-Proben platziert werden. Knapp oberhalb des Substrathalters befindet sich die Gasfördereinheit, die der Kern von AMAT P5000 Mark II ist. Sie enthält eine Anordnung von Messingdüsen, die mit den Gaseinlassleitungen verbunden sind, um die Zufuhr der verschiedenen für den IC-Produktionsprozess erforderlichen Gase zu steuern. Die Gasverteilmaschine ist so ausgelegt, daß der Gasstrom über die Substratebene gleichmäßig ist. Mit dem Vakuumwerkzeug wird der erforderliche Prozesskammerdruck aufrechterhalten. Zur Vakuumanlage gehören eine Turbomolekularpumpe sowie Vorleitungs- und Diffusionspumpen. Die Turbomolekularpumpe stellt sicher, dass die Prozesse einen konstanten Druck aufrechterhalten, während die anderen Pumpen die Evakuierung von Gasen ermöglichen, die aus dem Ionenbeschuss-Prozess resultieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II hat eine Reihe von Steuerparametern, um eine präzise Prozesssteuerung zu ermöglichen. Die vom Anwender einstellbaren Parameter umfassen den gesamten Verarbeitungsdruck, den Prozessgasstrom und die Zusammensetzung, die Substrattemperatur, die Leistungsstufen des Ionenbeschusses sowie weitere Parameter. Zusammen ermöglichen diese Parameter die präzise Steuerung der Prozessumgebung, um spezifische Ergebnisse zu reproduzieren und Prozessvariationen anzupassen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II ein hochentwickelter, vielseitiger Reaktor, der für die Herstellung von IC-Geräten verwendet wird. Es nutzt mehrere Fächer und Systeme in Verbindung mit unterschiedlichen Steuerparametern für eine präzise Prozesssteuerung. Dies ermöglicht die gleichmäßige Herstellung hochwertiger IC-Geräte.