Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9298983 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein fortschrittlicher Ätzprozessreaktor, der eine verbesserte Plasmagenauigkeit und -kontrolle bietet und verbesserte Geräteausbeuten und -leistung bei gleichzeitiger Reduzierung der Betriebskosten ermöglicht. Dieser Ätzprozessreaktor eignet sich für die Verarbeitung von Argon und Fluor. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien, wie Silizium, Polysilizium und andere zu ätzen. AMAT P5000 Mark II ist ein rezeptgetriebenes, produktionsfähiges Werkzeug mit vier I/O-Bedienzentren und einer einzigen Ätzkammer. Es verfügt außerdem über ein mehrkanaliges Niederspannungs- Monoblock™ Magnetron, das sowohl für reaktive Gasarten-Ionen als auch für die Gasneutralisierung eine kontrollierte Leistung gewährleistet. Das Monoblock-Magnetron bietet eine verbesserte Kontrolle und Genauigkeit der Plasmaprofile, um die Gleichmäßigkeit des Waferprozesses von der Kante zur Mitte zu maximieren. Es ist auch mit einem HF-Impedanzsystem ausgestattet, das eine schnelle adaptive Reaktion auf Schwankungen der Reaktantgase gewährleistet. APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II wurde entwickelt, um die Produktivität mit Prozessstabilität, Durchsatz und Produktivität zu maximieren und eine optimale Ätztiefe und Profilkontrolle zu ermöglichen. Die Prozessleistung wird weiter verbessert, indem ein erweitertes Quell-Tuning-Modul eingebaut wird, um HF-Quellenanpassung und Prozessoptimierung zu ermöglichen. Das mitgelieferte Gasfördersystem ermöglicht eine breite Palette von Reaktionsgasen und bietet ausgewogene Gasströmungen, geringe Reaktionsgasaustritte und minimieren die Abscheidung von Verunreinigungen auf dem Wafer. Darüber hinaus verfügt die Prozesskammer über ein fortgeschrittenes Filmabscheidungs-Überwachungssystem, das eine In-situ-Wafer-Abbildung der Abscheidung auf dem Wafer ermöglicht. Durch die Überwachung der Abscheidungsschicht kann ein Bediener geringfügige Verschiebungen der Ätzprozessparameter schnell erkennen, was eine sofortige Anpassung und Korrektur ermöglicht. Insgesamt ist der Anwendungsmaterialien P5000 Mark II Ätzprozessreaktor ein hochfähiges Ätzwerkzeug, das eine verbesserte Plasmakontrolle, Gleichmäßigkeit und Prozessoptimierung zur Maximierung der Geräteausbeuten und -leistung ermöglicht. Mit seinen fortschrittlichen Steuerungssystemen und der mehrkanaligen RF-Quelle bietet es Anwendern ein effektives und zuverlässiges Mittel zur Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien.