Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9298985 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II
ID: 9298985
Wafergröße: 6"
CVD System, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor ist eine voll automatisierte substratbasierte Durchsatzreaktorausrüstung, die den hohen Anforderungen der jüngsten Fortschritte in der Fertigung gerecht wird. Dieses System verfügt über eine robuste Konstruktion und erweiterte Fähigkeiten, um eine zuverlässige Serienproduktion in der Halbleiterindustrie zu gewährleisten. AMAT P5000 Mark II besteht aus einem doppelten Substrathalter mit perforierten Heizplatten, die für optimale Temperaturgleichmäßigkeit und maximalen Durchsatz ausgelegt sind. Dies ermöglicht eine höhere Temperaturgleichmäßigkeit und eine schnellere Gesamtprozesszeit. Das Gerät wird auch mit einer Zwangsluft-Multizonenmaschine geliefert, die eine präzise Kontrolle der Umgebung bietet, um die fortschrittlichsten Prozessanforderungen zu erfüllen. APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II enthält auch erweiterte Funktionen zur Unterstützung der Prozesssteuerung, wie ein automatisiertes Feedback-basiertes Steuerungstool und ein Multi-Parameter-Monitoring-Asset. Auf diese Weise kann das Modell Prozessparameter in Abhängigkeit von kritischen Parametern wie Temperatur, Druck, Gasfluss und Vorläuferstrom automatisch anpassen, um die bestmöglichen Prozessergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät wird auch mit einem integrierten Datenerfassungssystem geliefert, das detaillierte Informationen über Prozessbedingungen und Beispielparameter während jedes Chargenzyklus liefert. Dies ermöglicht eine einfache Nachverfolgung der Prozessergebnisse für zukünftige Referenzen oder Vergleiche. Darüber hinaus bietet P 5000 MARK II integrierte Sicherheits- und Wartungsfunktionen, die eine einfache Wartung und Überwachung des Geräts ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II Reaktor ist die perfekte Lösung für großvolumige Chargen von Dielektrika, Metallen und Halbleitermaterialien. Die robuste Konstruktion, die fortschrittlichen Funktionen und die präzise Prozesskontrolle machen sie zu einer zuverlässigen und effizienten Maschine für die anspruchsvollsten Anforderungen der heutigen Halbleiterproduktion.
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