Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9298986 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist eine hochpräzise Substratverarbeitungsanlage, die Anwendern eine hervorragende Leistung für die IC-integrierte (Integrated Circuit) Produktion bietet. Dieses Tool verwendet mehrstufige Verfahren zur Perfektion von Siliziumscheiben, einschließlich Ionenimplantation, epitaktische Schichtabscheidung und Geräteätzen. Das System ist so konzipiert, um bis zu 106 Wafer pro Stunde zu handhaben, so dass seine Substratgröße 8 Zoll oder 200 mm beträgt. AMAT P5000 Mark II verwendet elektrische Felder mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP), um die Ionen zu erzeugen, die für die Dotierung ausgewählter Bereiche auf dem Substrat erforderlich sind. Dieses Verfahren ist sehr wiederholbar und präzise, so dass das Werkzeug auf kostengünstige Weise überlegene ICs herstellen kann. Darüber hinaus können APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II verschiedene Parameter steuern, einschließlich Druck, Temperatur und Konzentration, die die Kontrolle und Genauigkeit des Werkzeugs bei der Herstellung der gewünschten dotierten Bereiche auf dem Substrat erhöhen. Die Einheit ist sowohl mit einer fortgeschrittenen Primärkammer, die bei der epitaktischen Abscheidung verwendet wird, als auch mit einer fortgeschrittenen zweiten Kammer, die beim Ätzen verwendet wird, ausgestattet. Auf diese Weise können Anwender beide Stufen ihres Produktionsprozesses nutzen. Die Primärkammer verwendet eine Gasfördermaschine, um die Genauigkeit und Stabilität der Dotierung zu gewährleisten. Dieses Gasförderwerkzeug wird ständig überwacht und verwaltet, um einen konstanten und konsistenten Dotierungsprozess aufrechtzuerhalten. Um die Leistung zu maximieren und Abfälle zu reduzieren, verwendet APPLIED MATERIALS P5000 Mark II eine proprietäre 3D Auto-Asset-Schnittstelle. Diese Schnittstelle bietet dem Bediener eine grafische Darstellung des Prozesses und zeigt wichtige Parameter und Einstellungen in Echtzeit an. Dies ermöglicht einen wesentlich einfacheren Prozess zur Einstellung von Bearbeitungszeiten, Temperaturen und anderen Größen. Zusammenfassend ist der APPLIED MATERIA P5000 Mark II™ ein fortschrittliches Werkzeug zur Substratverarbeitung, das eine hervorragende Leistung für die IC-integrierte Produktion bietet. Sein fortschrittliches IKP-Dopingverfahren ermöglicht eine erhöhte Genauigkeit und Wiederholbarkeit und trägt zur Aufrechterhaltung der Wirtschaftlichkeit bei. Das Tool ist auch mit einer erweiterten primären und sekundären Kammer und einer proprietären 3D Auto-Model Interface ausgestattet, die dem Bediener eine grafische Darstellung des Prozesses bietet. Dies ermöglicht es dem Bediener, Variablen einfach einzustellen und die Leistung zu maximieren und gleichzeitig Abfall zu reduzieren, was es zu einem überlegenen Werkzeug für die Herstellung komplizierter ICs macht.