Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9300021 zu verkaufen
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ID: 9300021
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
CVD Etcher, 8"
Mainframe
Mainframe cables
Chamber A / B / C:
Type: DCVD Universal
Process: SA / Delta / TEOS
Process kit: Plasma C-chuck
Manometer: Dual 20-1000 Torr/MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
ASTEX AX8200 Ozone generator
Gas box MFC: UNIT MFC
Lamp driver
RF Gen I / II: RFDS 2000-2V/RFPP LF-5
RF Match: Phase IV
Chamber D:
Process: Sputter etcher
Process kit
Manometer: Single Torr/MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve
Turbo pump
Magnet driver
Gas box MFC: UNIT MFC
RF Gen I / II: ENI OEM 12B
RF Match: Phase IV
21-Controller slots
SBC Board type: V21 SYNERGY
Boss ROM version: E4.8
Video board type: VGA
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Robot type: Phase III
Auto-load / Unload cassette handler
Silicon-Tin-Oxide (STO) elevator type: 15-Slots
WPS Sensor
I/O Wafer sensor
Loadlock Purge
Loadlock Slow vent
Slit valve type: ZA Slit valve
Hot box version: Version IV
Top / Standard exhaust line
(28) Gas line panels
HAMART-4 Ozone monitor
Mini controller
Chiller
Safety module: (2) EMO Switches
Remote frame
EMO Switch
Expanded VME: (15) Slots
No Monitor rack
CRT Monitor
Light pen
Service monitor rack
Miscellaneous:
No Hard Disk Drive (HDD)
Transformer
Laminar flow hood
No mainframe cover
Load lock chamber:
Robot type: Phase III robot
Robot blade: 8"
Continuous purge
Center finder board
TC Gauge
ATM Switch
Vacuum switch
Vacuum sensor (TC)
System electronics:
(2) TC Gauge boards
+12 VDC Power supply
+15 VDC Power supply
-15 VDC Power supply
Buffer I/O board
AI MUX Board
Optical sensor boards
Chopper driver boards
Pneumatic control PCB
Main DC power supply
VME Controller:
Intelligent interface board
Missing SBC board
SEI Board
Co-processor board
(4) AI/AO / AI/O Boards: (1 AI and 1 AO)
Missing video board (VGA)
(4) Stepper boards
(4) DI/DO / DI/O Boards (7)
System misc:
Remote wiring dist board
System wiring dist board
No I/O Distribution board
Mini controller
Heat exchanger
Process / A / B / D
Mark II TEOS / CVD TEOS / CVD TEOS
RF Generator 1 / RFDS 2000-2V / RFDS 2000-2V / RFDS 2000-2V
O3 Generator / AX-8200 / AX-8200 / AX-8200
LF Generator / RFPP LF-5 / RFPP LF-5 / RFPP LF-5
TC Gauge
Isolation V/V / Cluster type
Interlock:
Coolant flow
Half ATM switch
Lamp module
CVD Lamp driver
Lift assy:
Susceptor lift assy
Wafer lift assy
Gas panel:
Gas panel interface
Expanded gas panel PCB
Standard or expanded module
Air maker
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist eine leistungsstarke, großtechnische Plasmaätz- und Abscheidungsanlage. Dieses System ist weit verbreitet in der Herstellung von integrierten Schaltungen, wie Speicher- und Logikchips, sowie Anzeigetafeln, Sensoren und anderen mikroelektronischen Geräten. Es verwendet eine proprietäre hochdichte induktiv gekoppelte hochfrequenzbetriebene Plasmaquelle, um ein ionisiertes Gas zu erzeugen, das mit einem Substrat reagiert, um das gewünschte Prozessergebnis zu erzielen. Der Motor des AMAT P5000 Mark II Reaktors besteht aus einer Vakuumkammer, einem Mikrowellengenerator, Tragstrukturen und einem Hochleistungs-HF-Generator. Der Hochleistungs-HF-Generator erzeugt ein elektrisches Feld von bis zu 200.000 Volt bei einer Frequenz von 13,56 MHz. Dieses Hochleistungsfeld ionisiert das Prozessgas und liefert ein Plasma, das den Ätzprozess und die Abscheidung abschließen kann. Der Generator steuert auch die Abscheiderate und Temperatur, so dass eine genaue Kontrolle des Endergebnisses möglich ist. Das Reaktivgas des ANWENDUNGSMATERIALS P 5000 MARK II Reaktors besteht aus einer Kombination chemischer Verbindungen, einschließlich Chlor und Stickstoffgasen. Diese reagieren mit dem Substrat, um eine Vielzahl von Prozessen wie Ätzen, Abscheiden und Passivieren zu schaffen. Der Reaktor ist auch in der Lage, Sauerstoffascherei und chemisch-mechanische Polierverfahren (CMP) durchzuführen. P 5000 MARK II Reaktor verfügt über zahlreiche Sicherheitsmerkmale und Automatisierung, um ein hohes Maß an Sicherheit zu gewährleisten. Beispielsweise ist der Reaktor in einer Inertgaskammer untergebracht, um sowohl das Gerät als auch den Bediener vor einer potentiell gefährlichen Umgebung zu schützen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen Temperaturwächter und eine Alarmmaschine, die das Werkzeug abschaltet, wenn die Temperatur bestimmte Werte überschreitet. Abschließend ist P5000 Mark II Reaktor eine leistungsstarke, fortschrittliche Plasmaätz- und Abscheidungsanlage, die eine präzise Kontrolle über die Abscheidungsrate und Temperatur bietet. Es ist für die Serienfertigung und Sicherheit konzipiert und wird umfassend bei der Herstellung von ICs und anderen elektronischen Geräten verwendet.
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