Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313061 zu verkaufen

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ID: 9313061
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Etcher, 8" Gas panel facilities: Top feed single-line Gas panel exhaust: Top feed Robot blade: Metal Wafer type: Notch Gas panel type: UHP EMO's: Momentary Gas lines: (28) Lines Robot type: Standard System umbilicals: 25ft MF Facilities: Rear Mainframe: Phase II Load lock slit valves: Viton NESLAB Heat exchanger VME Rack: Standard Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB Chamber A: Chamber process: Oxide Lid type: MxP+ Clamped Susceptor / Pedestal: RIE NESLAB Heater / Cathode cooling Slit valve O-ring: Chemraz Chamber O-rings: Chemraz NESLAB Wall cooling Single manometer: 1 Torr Throttle valve: Direct drive Gas valves: Nupro Chamber clamps Chamber B: Chamber process: Oxide Single manometer: Manometer 1 Torr Throttle valve: Direct drive Susceptor / Pedestal: RIE NESLAB Wall cooling NESLAB Heater / Cathode cooling LEYBOLD Turbo pump Chamber B gasses: Gas / MFC Size / Gas name Gas 1 / 100 Sccm / CHF3 Gas 2 / 200 Sccm / Ar Gas 3 / 50 Sccm / CF4 Gas 4 / 200 Sccm / O2 Gas 5 / 20 Sccm / O2 Gas 6 / 100 Sccm / N2 Gas valves: Nupro VME Rack and chamber parts missing Power supply: 208 Vac. 400 Amp, 50 Hz Transformer 1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist ein vielseitiges und kostengünstiges Werkzeug für Nanofabrikation, Nanocharakterisierung und fortschrittliche Materialabscheidung. Dieser technologisch fortschrittliche Reaktor ist mit zwei unabhängig voneinander gesteuerten hochpräzisen beheizten Stufen, einer mit Inertgas gefüllten Druckkammer und einem Graphit-Suszeptor ausgelegt. Seine Druckkammer von maximal 90 mm ermöglicht die Verarbeitung verschiedener fortschrittlicher Materialien durch Hochtemperaturverarbeitung bis 1200 ° C. Das Dual-Source-System ermöglicht die gleichzeitige Beschichtung fortschrittlicher Materialien mit der Fähigkeit, jeweils bis zu vier Quellen aufzunehmen. Der wiederverwendbare Suszeptor ist aus Graphit aufgebaut, der eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit aufweist und einen hohen Schmelzpunkt aufweist. Der Suszeptor wird verwendet, um die Temperatur jeder erhitzten Platte separat zu steuern, wenn Nanocharakterisierungsexperimente wie Oberflächencharakterisierung und Probenanalyse durchgeführt werden. Der Suszeptor dient auch zur Verdampfung von Materialien wie Metall- und Halbleiterfilmen, wenn eine Abscheidung erforderlich ist. Die Temperatur jedes Substrats kann unabhängig voneinander variiert werden. Zur Bereitstellung einer inerten Umgebung ist ein Quarzrohr mit AMAT P5000 Mark II Reaktor versehen. Das Quarzrohr wird mit einem Inertgas gefüllt, um die fortgeschrittenen Materialien vor Oxidation oder anderem Abbau durch Reaktion mit Umgebungsluft zu schützen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II Reaktor ist ein vielseitiges und kostengünstiges Nanofabrikationswerkzeug. Sein Dual-Source-System ermöglicht die gleichzeitige Verarbeitung mehrerer Materialien und seine unabhängig gesteuerten beheizten Stufen bieten eine präzise Temperaturregelung. Der Graphit-Suszeptor sorgt für eine effiziente Wärmeübertragung auf die Substrate und die Inertgasumgebung schützt die fortgeschrittenen Materialien vor Oxidation oder Abbau. AMAT P 5000 MARK II Reaktor ist in der Lage, Hochtemperaturverarbeitung bis zu 1200 ° C zu schaffen, so dass es ideal für fortgeschrittene Materialabscheidung und Nanocharakterisierungsexperimente.
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