Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9356928 zu verkaufen
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ID: 9356928
Wafergröße: 8"
PECVD System, 8"
(3) Chambers
Process: TEOS, TEB, TEPO
Throttle valve, P/N: 0010-76174
SACVD Gas box
Pressure transducer, P/N: 122BA-01000EB-S
Transducer, P/N: 627A-13267
Mass Flow Controller (MFC), P/N: LF-310A-EVD
Gases: N2, O2, NH3, He
(3) Lamp assemblies, P/N: 0010-09978
(3) RF Match assemblies, P/N: 0010-09750
(3) 5000 / 5200 CVD C-Plug throttle valves, P/N: 0010-37151
Remote control liquid injector, P/N: 0010-09886
ASTEX AX8200 Ozone generators:
(2) AX8200A-CE, P/N: 0190-35870
AX8200A, P/N: 0190-09437
(3) ENI OEM-12B RF Generator, 1250 W
(3) ADCS Gas box and controllers
(3) ADCS A1 Signal interface modules
(3) ADCS Automatic purge controllers
(3) ADCS BRC 22A Integrated refill controllers
(3) ADCS 969 Low level monitors
Ozone generator rack
Gas, shower head box
Cables.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktorausrüstung ist ein hochmoderner Reaktor für die Halbleiterherstellung. Der AMAT P5000 Mark II Reaktor eignet sich von der Dünnschichtabscheidung bis zur Ätzverarbeitung. Mit einer Vielzahl von Prozesskammern kann der Mark II Reaktor die perfekte Balance zwischen Präzision und Leistung erreichen. Ausgestattet mit fortschrittlichen Funktionen wie thermischer Gleichmäßigkeit, Druckkontrolle und einem kostengünstigen elektronischen Teilsystem bietet der Mark II Reaktor dem Anwender eine qualitativ hochwertige Abscheide- und Ätzerfahrung. Angewandte Materialien P 5000 MARK II Reaktor enthält ein einzigartiges Merkmal als Dual-Beam Multi-Process Chamber (DBMPC) bekannt. Dieses Kammermerkmal ist eine multifunktionale Kammer, die zwei Atomstrahlquellenverfahren in einer einzigen Kammer kombinieren kann. Dies bietet dem Anwender die Flexibilität, sowohl Abscheide- als auch Ätzprozesse innerhalb einer einzigen Kammer durchzuführen. Der Mark-II-Reaktor verwendet eine kostengünstige elektronische Teileinheit, um die Substrattemperatur innerhalb der Kammerumgebung genau steuern zu können. Die Maschine ist in der Lage, Temperaturen von 600 ° C zu erreichen, mit einer Temperaturgleichförmigkeit von innerhalb 1% über das gesamte Substrat. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur wird durch ein effizientes Vakuumwerkzeug erhöht, wodurch der Kammerdruck niedrig und stabil bleibt. Der Mark II Reaktor ist mit einem fortschrittlichen Prozeßgasmischprogramm ausgestattet. Das Mischprogramm steuert Zeit, Durchfluss, Druck und Temperatur, um gewünschte Prozessergebnisse zu erzielen. Diese Funktion ermöglicht eine genaue Prozesskontrolle, so dass Prozesse mit einer extrem hohen Genauigkeit und Wiederholbarkeit durchgeführt werden können. Der Mark II Reaktor ist auch mit einer Sicherheitseinrichtung zum Schutz des Benutzers und der Ausrüstung konzipiert. Das Sicherheitsmodell umfasst mehrere Sicherheitssensoren, Temperatursensoren und Interlocks, um die Sicherheit des Benutzers und die Zuverlässigkeit der Betriebsmittel zu gewährleisten. AMAT P 5000 MARK II Reaktorausrüstung ist eine ideale Wahl für die Halbleiterherstellung. Mit fortschrittlichen Funktionen, präziser Temperaturregelung, fortschrittlicher Prozessgasmischung und einem Sicherheitssystem ist es keine Überraschung, dass der Mark II Reaktor eine Top-Wahl für Anwender in der Halbleiterindustrie ist.
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