Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9389398 zu verkaufen
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ID: 9389398
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Hard Disk Drive (HDD) Flush type
FDD, 3.5"
Cassette indexer
Electrical controller
Elevator type: 8-Slots, 6"
(2) CRT Monitors, 17"
(4) Chopper driver power packs
(2) Opto I/O BD
Buffer I/O BD
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
I/O Sensor
I/O Door
Vacuum sensor
Cap wafer sensor
Slit valve
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
VME Controller
Stepper control BD
EMO Option: Turn to release
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green
Signal cable: 25"
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
(3) ENI OEM-12A RF Generators
HX Seperate mani fold
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-07
Chamber C: OEM12B-07
Electrical controller:
(2) TC Gauge boards
Power rack, 12 VDC; (2) 15 VDC
Buffer I/O board
(2) Opto I/O boards
(4) Chopper driver power racks
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
Water lift type: Ceramic hoop
(3) Pumping plates
(3) Ceramic focus rings
(3) Shower heads
(3) Blocker plates
(3) Heater windows
(3) Bellow susceptors, 6"
(3) Bellows water lifts, 6"
(3) Lamp drivers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: UFC 1660
Manual valve: BENKAN
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
VME Controller:
1 / SBC Board
2 / SV21 SBC Board
3 / SEI Board
4-5 / -
6 / VGA
7 / AO-1
8 / AI-1
9-12 / Stepper control board
13-16 / Digital I/O board
17-20 / -
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM
1995 vintage.
AMAT / IIzeichenhalbleiterreaktor von APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Mediumsstromspannung photowidersetzen sich Chemieausrüstung hat vorgehabt, hohen Durchfluss, zuverlässige und kontrollierbare Leistung zu bieten. Es ist ein vollautomatisches System, das eine engmaschige Steuerung des Lithographieverfahrens ermöglicht, um eine enge Arzneimittelfreisetzungskapselbildung auf Substraten wie Siliziumscheiben zu erreichen. Die AMAT P5000 Mark II-Einheit kann mehrere Prozesse gleichzeitig ausführen und ist so konzipiert, dass eine maximale Ressourcennutzung bei geringen Betriebskosten gewährleistet ist. Angewandte Materialien P 5000 MARK II Reaktor verfügt über eine Drei-Kammer-Konstruktion, die die Hauptkammer, die obere Seitenkammer und die untere Seitenkammer umfasst. P 5000 MARK II ist in der Lage, einen Bereich von Photoresist-Verarbeitungsschritten, einschließlich thermisches und reaktives thermisches Oxid, metallorganische Chemien, großflächige Gleichmäßigkeit bis unter 10 Nanometer und chemisch verbessertes Ätzen. Der Reaktor AMAT P 5000 MARK II hat eine Leistung von bis zu 5 Millionen Wafern/Std. und ist in der Lage, bis zu 4 P5000 Reaktorsysteme für Mehrprozessor-Lithographiebetriebe anzuschließen. P5000 Mark II ist mit einer großen Anzahl dedizierter Hardware- und Softwarekomponenten ausgestattet, die eine engmaschige Prozesskontrolle ermöglichen und eine extreme Genauigkeit ermöglichen. Die Maschine basiert auf einer verteilten Steuerungsarchitektur mit redundanten Prozessoren, die eine hohe Werkzeugverfügbarkeit gewährleistet. Es kommt auch mit einer erweiterten grafischen Benutzeroberfläche, in der Lage, die detaillierten Prozessergebnisse in Form von Diagrammen und Diagrammen anzuzeigen. Als Ergebnis bietet es ein umfassendes Werkzeug, um Lithografen bei der Prozessauswahl und -optimierung zu unterstützen. Es ist mit einer Reihe fortschrittlicher Messtechnik-Komponenten ausgestattet, um eine exakte Prozesssteuerung zu gewährleisten. Angewandte Materialien P5000 Mark II Reaktor kommt auch mit einer Reihe von speziellen Schutzsystemen, die helfen, eine sichere Betriebsumgebung zu gewährleisten. Die Anlage umfasst beispielsweise ein ESD-Schutzmodell, das Menschen und Geräte vor elektrostatischer Entladung schützt. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine eingebaute Sicherheitsverriegelung, die das Risiko einer unsicheren Arbeitsumgebung durch unerwartete Bauteilausfälle reduziert. Darüber hinaus ist das Gerät mit Monitoren ausgestattet, die den Benutzer auf mögliche Fehler aufmerksam machen und es ihm ermöglichen, geeignete Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Zusammenfassend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II Reaktor eine leistungsfähige und zuverlässige Halbleiterverarbeitungsmaschine. Es ist mit einer Reihe von anspruchsvollen Funktionen ausgestattet, kombiniert mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen, die hohe Leistung und ultrapräzise Verarbeitungsergebnisse gewährleisten. Es bietet eine umfassende, automatisierte Lösung zur Herstellung einer engen Arzneimittelfreisetzungskapselbildung auf Substraten wie Siliziumwafern.
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