Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9398766 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9398766
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
Etcher, 8"
Robot: P5000 std robot, 8"
(3) Chambers (A, B, C)
Type: M Chuck
Throttle valve type
ALCATEL Turbo
Turbo controller:
NT340M
(2) CFF 450
0010-09416 RF Matcher
Orienter chamber: D
OEM 12B-02 AC Rack generator
Gas box:
MFC: STEC 4400
Nupro manual valve
Pneumatic diaphragm valve: Nupro
Sub module:
(2) AMAT-0 Heat exchangers
HX-150 Chiller
P/N: 0010-76036 Mini controller
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist ein fortschrittliches Halbleiterbearbeitungswerkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Der Reaktor bildet mit einem induktiv gekoppelten Plasma (ICP) den Plasmaätzprozess. Ein ICP ist ein Wechselstrom (AC), in dem Ionen, Elektronen und andere Teilchen bei Anregung ein Plasma bilden. Dieses Plasma erzeugt ein intensives elektrisches Feld, das zu beschleunigten chemischen Reaktionen und dem Ätzen von Material führt. Der AMAT P5000 Mark II Reaktor besteht aus einem exklusiven Lastschloss mit einem Temperaturbereich von 20 ° -200 ° C und einem hochauflösenden LED-Display zur Rückkopplung der Temperatur in Echtzeit. Das System bietet auch Beispieldiagnosen und Echtzeit-Überwachungsfunktionen, um die Genauigkeit und Leistung der Proben sicherzustellen. Dieser Reaktor soll beim Ätzen ein gleichmäßiges Plasma aufrechterhalten, was durch einen automatischen Hochspannungswellenlängenentzerrer ermöglicht wird, um eine stabile Plasmaquelle zu gewährleisten. Dies ist ein wichtiger Faktor für die Schaffung zuverlässiger und konsistenter Teile beim Ätzen, da die Wellenlänge des Plasmas je nach Leistung, Gasfluss und Druck variieren kann. Eine einzelne Fensterkammer und 6 N2 gekühlte induktiv gekoppelte Plasmaquellen (ICP) verbessern die Genauigkeit und Wiederholbarkeit für einen verbesserten Durchsatz. Dieser Reaktor bietet auch optionalen Einzelwaferbetrieb für die Verarbeitung von Produktions- und Prototypenwerkstoffen. Um die Effizienz des Systems zu steigern, kann ein Team erfahrener AMAT-Ingenieure RF-Tuning und Fehlerbehebung durchführen sowie Optimierungs- und Prozessentwicklungsdienstleistungen anbieten. Es gibt auch eine Reihe von Support-Software zur Unterstützung der Prozessentwicklung, Automatisierung und Überwachung dieses Systems. Angewandte Materialien Der P 5000 MARK II Reaktor ist in der Lage, Halbleiterbauelemente mit einem einzigen Waferprozess in wiederholbarer und reproduzierbarer Weise herzustellen, was für die Erzielung zuverlässiger, kostengünstiger Produkte entscheidend ist. Dadurch ist P5000 Mark II ein ideales Werkzeug für die industrielle Fertigung aller Halbleiterbauelementtypen.
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