Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9402055 zu verkaufen
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ID: 9402055
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD System, 8"
Process: PE SiH4 Oxide / Nitride
Clamp cassette indexer
HDD: SSD Type
FDD: SCSI, 3.5"
Elevator type: 8 Slots, 8"
Robot type: AMAT Standard
Blade: Standard, 8"
I/O Sensor and door
Center finder
Vacuum sensor
Standard slit value
Fore line
Signal tower: R / Y / G / B
Standard AC Rack
ENI OEM-12B-07 RF Generator
(3) RF Matching network
Heater exchanger
Does not include pump
Remote AC rack
Heat Exchanger: AMAT-1
Mini controller
POU Filter
Throttle valve: Cluster
Isolation valve: Nor-Cal
Lamp driver
Process chamber:
(3) Chambers: A, B, C
Type: DLH One-hole standard
CERAMIC Hoop wafer lift type
Heater: Lamp type
Lid assembly: O-Ring
Susceptor missing
Process kit:
Heater window
Lamp
Lift pin
Susceptor / Wafer lift bellows
Water Flow Switch:
A and B (modified)
C-Proteus switch
Gas panel:
Type: Standard
MFC: STEC
PNEUMATIC Value: Nupro
Manual shut off
Gas: SiH4 / N2O / NH3 / CF4 / C3F8 / C2F6 / He / N2
Chamber A:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 300
O2 / 20
N2 / 3000
N2 / 1000
N2 / 500
Chamber B:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 300
N2 / 300
O2 / 20
N2 / 1000
SiH4 / 500
Chamber C:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 1000
Ar / 100
N2 / 3000
N2 / 1000
N2 / 5000
Main DC power supply
VME DC power supply
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reaktor ist ein generalisiertes Halbleiterbauelement Produktionsanlage entwickelt, um eine breite Palette von Anwendungen mit hohem Volumen zu adressieren, einschließlich diejenigen, die sowohl hohe Reinheit und Niedertemperatur Abscheidung Eigenschaften erfordern. AMAT P5000 Mark II ist hochgradig anpassbar, sodass Benutzer es an eine Reihe unterschiedlicher Prozessanforderungen anpassen können. Es verfügt über Hochgeschwindigkeits-rotierende Elektronenstrahlquellen und erweiterte Scanfunktionen, die schnelle Produktionsraten ermöglichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 MARK II Reaktor verfügt auch über fortschrittliche Gas- und Chemikalienmanagementsysteme, die sicherstellen, dass die Inhaltsstoffe genau dosiert werden und reaktive Nebenprodukte schnell und sicher entfernt werden. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II verfügt über einen leistungsstarken Embedded Controller, mit dem Anwender anspruchsvolle Prozesse von einer einfach zu bedienenden Schnittstelle aus programmieren können. Eine Reihe von Temperaturregelungsfunktionen gewährleisten die höchstmögliche Produktqualität bei der Herstellung von Wafern. Das Kontrollsystem verfügt über Alarmüberwachungsfunktionen, mit denen Benutzer ihre Geräte bei minimalen Ausfallzeiten reibungslos laufen lassen können. AMAT P 5000 MARK II umfasst auch erweiterte Überwachungs- und Datenerfassungsfunktionen, mit denen integrale Parameter während des gesamten Prozesses überwacht werden können. P 5000 MARK II bietet eine hochflexible Distance-to-Wafer Variable (DTWV), mit der bis zu fünf verschiedene Abstandseinstellungen auf einem einzigen Reaktorkopf konfiguriert werden können. Das bedeutet, dass Anwender ihren Wafer-Fertigungsaufbau einfach skalieren können, ohne mehrere Reaktoren kaufen zu müssen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II können auch mit einer Vielzahl von physikalischen Optionen konfiguriert werden, wie Roboterhalterungen und kundenspezifische Gehäuse. P5000 Mark II ist eine zuverlässige und leistungsstarke Geräteproduktionseinheit. Dank seiner modernsten technologischen Fähigkeiten ist es die perfekte Lösung für volumenstarke Prozesse mit hohen Anforderungen. Es kann einfach konfiguriert werden, um die spezifischen Anforderungen von industriellen Anwendungen zu erfüllen, mit den notwendigen Stufen der Steuerung, Überwachung und Datenprotokollierung. Mit seiner robusten eingebauten Steuerungsmaschine und seiner einfachen Skalierbarkeit ist AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II eine zuverlässige und fortschrittliche Produktionslösung für Halbleiterbauelemente.
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