Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9411664 zu verkaufen

ID: 9411664
Wafergröße: 6"
Poly etcher, 6" Hard Disk Drive (HDD) SDD Flash hard Floppy Disk Dive (FDD), 3.5" Storage elevator: 8-Slots Cassette indexer: Standard clamp type (3) Chambers Process chamber: ABD, PE-TEOS (3) Baratron gauges: MKS 627A, 20 Torr (3) Chamber body: One hole chambers, 8" Lid assembly, 8" Standard robot blade (3) ENI OEM 12B RF Generators (3) Gas panels NUPRO/FUJIKIN Pneumatic/Shut-off valve (3) RF Matchers standard (3) Slit valves standard (3) Throttle valves, C-plug (3) Susceptors P-chuck, 6-8" (3) Process kits, 8" Lift assembly O-Ring (42) Lamps Mini controller Remote AC Rack standard type Remote AC Rack to MF cable, 55 feet Remote monitor cable, 25 feet Pump/Heat exchanger cable, 25 feet AMAT-0 Heat exchanger Heat exchanger water hose color flex, 55 feet (3) TEOS Delivery line heaters (3) TEOS G-Plis LF 410A-EVD / IV-2410-02H (2) HORIBA Z512 / GF 100 N2, (5) SLM / O2-s (3) SLM / He 5000 SCCM / C2F6 500 SCCM (2) LCD Touch / Light pen monitors (2) Monitor racks.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein weit verbreiteter Reaktor, der für die Verarbeitung fortschrittlicher Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Das Gerät besteht aus einer Prozesskammer, einer Pumpe, einer Heizung und einer Gassteuerung, die es ermöglichen, ein breites Spektrum von Prozesstemperaturen und Gasströmen mit Genauigkeit und Präzision zu erreichen. Die Prozesskammer ist aus Edelstahl gefertigt und hat zwei 8-Zoll-Ausgänge für Gasabgas- und Pumpenleitungen. Die Gasströme werden mit drei unabhängigen Gasleitungen gesteuert und können für einen weiten Bereich von Drücken und Strömungsgeschwindigkeiten konfiguriert werden. Die Kammer ist ferner mit einem Prozessfenster zur Betrachtung der Probe und zur Steuerung der Waferbewegung ausgestattet. Die Heizung hingegen ist so konzipiert, dass sie eine hohe Gleichmäßigkeit und Genauigkeit bietet und während des Prozesses konstante und präzise Temperaturen aufrechterhält. Es ist mit einem Quarzofen ausgestattet, der die gewünschte Temperatur genauer hält als herkömmliche Heizgeräte. Die Pumpe ist in der Lage, sehr hohes Vakuum bereitzustellen und kann den Druck genau steuern. Der Regelbereich der Pumpe liegt zwischen 0,1 und 10 Torr und verfügt über eine wassergekühlte Turbomolekularpumpe für Niedervakuumbetrieb. Die Gassteuereinheit dient zur Steuerung der Prozessgase. Sie besteht aus Massenstromreglern, die die Menge der zugeführten Gase steuern, Ventilen zum Schalten und Umleiten von Gasen und Reglern zur Druckregelung. Die Maschine ist auch mit mehreren Sicherheitsmaßnahmen ausgestattet, wie einem Sicherheitsmonitor und einem Not-Aus-Schalter. Dies gewährleistet einen sicheren Betrieb und schützt die Ausrüstung und den Benutzer vor jeder gefährlichen Situation. Insgesamt ist AMAT P5000 Mark II eine zuverlässige Prozesskammer, die in der Lage ist, eine Vielzahl von Halbleiterprozessen durchzuführen. Es ist in der Lage, Temperaturen, Drücke und Durchflussraten genau zu steuern und eine sichere Arbeitsumgebung zu schaffen.
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