Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark ll #9186958 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark ll
ID: 9186958
Metal etch chamber.
AMAT P5000 Mark 11 ist ein leistungsfähiger, kostengünstiger und zuverlässiger Ätzreaktor zur Herstellung dünner Filme für Halbleiter- und andere optoelektronische Anwendungen. Es ist eine bewährte und zuverlässige All-in-One-Lösung für eine breite Palette von Oxid-, Nitrid- und Metall-Ätzanwendungen. Es kann zum strukturierten und musterlosen Ätzen von Metallen, Oxiden, Nitriden und anderen dielektrischen Materialien verwendet werden. Die Maschine ist vollautomatisiert mit fortschrittlicher integrierter Hard- und Software, die Hochgeschwindigkeitsätzen und hohen Prozesserträgen ermöglicht. APPLIED MATERIALS P5000 Mark 11 verfügt über eine Reihe von Schlüsselkomponenten, darunter einen HF-Generator, RF- und ICP-Ätzkabel, eine Side-Loading Wafer Placement Chamber, ein transparentes Drucksystem und eine fortschrittliche Software-Suite. Der HF-Generator kann bis zu 50kW HF-Leistung über eine Frequenz von bis zu 200MHz laufen. Die RF- und ICP-Ätzkabel ermöglichen eine zusätzliche Ätzsteuerung und Optimierung. Die Seitenbeladung Wafer Platzierkammer maximiert den Durchsatz in kleinen, mittleren und großen Chargen von Wafern bei gleichbleibender Platzierung und Orientierung Wafer. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark 11 verwendet ein einzigartiges transparentes Drucksystem (TPS), das in der Lage ist, reaktive und nicht-reaktive Ätzprozesse in einer kontinuierlichen Einkammer-Umgebung durchzuführen, wodurch der Bedarf an mehreren Kammern und der manuellen Übertragung von Wafern entfällt. Das TPS ermöglicht auch eine präzise Druckregelung, um Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Die integrierte Software-Suite umfasst eine Windows-basierte grafische Benutzeroberfläche, die Benutzern leistungsstarke Leistung, Prozessinformationen und Zuverlässigkeit bietet. AMAT P5000 Mark 11 ist eine ideale Wahl für IC- und Optoelektronik-Fertigungsanwendungen wie die Herstellung von Verbundhalbleitern, Dünnschichten für Solarzellen und MEMS. Seine hohe Geschwindigkeit, Wirtschaftlichkeit und Zuverlässigkeit machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für das Ätzen von Metallen, Oxiden und Nitriden. Die Software-Suite bietet Anwendern einen kompletten Satz von Tools zur Überwachung des Ätzprozesses und zur Optimierung der Prozessergebnisse.
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