Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181092 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 181092
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Poly etch system, 8"
Specifications:
Wafer Diameter: 8"
Process: 42 Poly
Software Version: L4.70B
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 2 Cassette Handler / 29-Slots Storage
ESC Type: Electrostatic
1Torr Manometer: MKS 127AA-00001B
Chamber Dry pump model and size: Ebara A70W
Loadlock Dry pump model and size: Ebara A10S (sharing between chamber A/B)
Turbo pump model and size: Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller: SCU-21D
Cathode Chiller model: AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model: AMAT Steelhead 1 CHX (sharing between chamber A/B)
EP system: Monochrometer
Heater Stack/Gate valve: Standard
RF generator model: ENI OEM-12B
RF match model: Hybrid RF Match
IHC manometer: 10 Torr Manometer
IHC mfc size: 20 sccm
High Voltage Module: Chuck
Process Configuration:
Chamber Position 1 / Etch Chamber A:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
Chamber Position 2 / Etch Chamber B:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ist ein Hochleistungs-Plasmaätzreaktor, der für den Einsatz in der Halbleiterherstellungsindustrie entwickelt wurde. Es handelt sich um eine Einzelplasma (HDP) -Ätzausrüstung mit hoher Dichte, die für maximalen Durchsatz und Präzisionsätzen ausgelegt ist. AMAT P5000 MxP verfügt über eine mehrstufig konfigurierte Prozesskammer, die es ermöglicht, das optimale Ätzprofil für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern. Die Lastschleuse und die Transferkammer sorgen für einen hohen Durchsatz bei gleichzeitig hoher Wiederholbarkeit des Ätzprozesses. Das automatisierte Bordgas-Handling-System sorgt zudem für einen konstanten Gasfluss während des gesamten Ätzprozesses, während zwei Plasmaquellen ein Hochgenauigkeitsätzen ermöglichen. Die leistungsstarke Quellenleistung in Verbindung mit dem effektiven Regelkreis sorgt für einen zuverlässigen Ätzprozess, der die gewünschten Ergebnisse konsistent und genau liefert. Die große Wafergröße (bis zu 10 "Wafer) steigert den Durchsatz und macht APPLIED MATERIALS P5000 MxP kostengünstig für die Großserienproduktion. Die automatisierte Prozesssteuerungs- und Überwachungsmaschine trägt auch dazu bei, einen sicheren Ätzprozess zu gewährleisten. Das Werkzeug kann zum Ätzen unterschiedlichster Materialien eingesetzt werden, von Metallen bis zu dielektrischen Folien. Darüber hinaus eignet es sich zum Ätzen von MOSFETs, BJTs und MEMS-Geräten. Außerdem soll sichergestellt werden, dass Teile durch Überätzen oder Unterätzen beschädigungsfrei geätzt werden. Um einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten, ist P5000 MxP mit einer Diagnose ausgestattet, um die Leistung des Werkzeugs zu überwachen. Es umfasst auch eine Lieferung von Ersatzteilen und Sicherheitsverriegelungen, um das Werkzeug und seinen Betrieb bei unerwartetem Ausfall zu schützen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ein effizienter, zuverlässiger und kostengünstiger Plasmaätzreaktor, ideal für die Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterbauelementen und anderen empfindlichen Materialien. Es bietet eine hohe Prozesssteuerung und einen hohen Durchsatz, während sein automatisiertes Steuerungstool dazu beiträgt, dass der Ätzprozess sicher und effektiv durchgeführt wird.
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