Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181093 zu verkaufen

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ID: 181093
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Etch Chamber, 8" Process: 50 and 55 spacer Loading Configuration: 2 Cassette Handler/ 29 Slot Storage System Power Rating: 208VAC 3-Phase Software Version: L4.70B Mainframe body System AC power box CRT monitor/Monitor Base/Light pen ESC Type Electrostatic 1Torr Manometer MKS 127AA-00001B Turbo pump model and size Seiko Seiki 301CB1 Turbo pump controller SCU-21D Cathode Chiller model AMAT Neslab HX150 Wall Chiller model AMAT Steelhead 1 CHX EP system Monochrometer Heater Stack/Gate valve Standard RF generator model ENI OEM-12B RF match model Hybrid RF Match IHC manometer 10 Torr Manometer IHC mfc size 20 sccm High Voltage Module Chuck Etch Chamber A: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2 Etch Chamber B: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ist eine Verarbeitungsanlage, die maximale Flexibilität und Leistung in einer Reihe von Batch- und Single-Wafer-Anwendungen ermöglicht. Das MxP ist ein Reaktorsystem mit einer automatisierten Prozesskammer, die eine vorinstallierte Multiport-Ladeschloss, elektrostatische Spannfutter und Substrat-Heizelemente, drei Ein-/Ausgänge für Gas- und Flüssigkeitsquellen und eine Reihe von Prozesssteuerungs- und Überwachungskomponenten umfasst. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen Vision-Maschine für die Platzierung von Wafern sowie Bewegungssteuerungen für präzises Substrathandling ausgestattet. Der MxP bietet Hochtemperatur-Festphasenfolien und Schnittstellen für verschiedenste Anwendungen. Durch den integrierten mehrstufigen thermischen Prozess führt das MxP Glüh- und Diffusionsprozesse durch. Darüber hinaus bietet das MxP auch fortgeschrittene Oxidations- und CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition). Seine Plasmaquelle ermöglicht die Herstellung von amorphen SiO2-Filmen, plasmanitrierten Filmen und plasmadotierten Filmen. Das MxP verwendet Echtzeit-Prozessüberwachung, automatisiertes Wafer-Handling und intelligente Rezeptentwicklung, um die Genauigkeit der Wafer-Funktionen zu gewährleisten. Seine Bedienoberfläche bietet Sichtbarkeit und Kontrolle über jeden Prozessschritt, indem sie die Überprüfung und Auswahl von Rezepten und Parametern ermöglicht. Die Kammerumgebung wird mit Echtzeit-Prozessparametern, einschließlich Temperatur, Druck, Plasmastufen und Prozessgasen, genau überwacht. Darüber hinaus bietet AMAT auch mehrere andere Lösungen an, die speziell für die Leistungssteigerung des MxP entwickelt wurden. Diese Lösungen umfassen sowohl aktuelle als auch kommende Versionen des MxP-Reaktors sowie schlüsselfertige Prozesslösungen, die die revolutionären Fähigkeiten des MxP unterstützen. AMAT P5000 MxP wurde entwickelt, um Benutzern die Möglichkeit zu bieten, die Leistung des Geräts zu maximieren, so dass sie eine Vielzahl von thermischen Prozessen nutzen können. Mit seiner präzisen Temperaturregelung, überlegenen Fertigungswerkzeugen und Prozessüberwachung ist der MxP-Reaktor eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen.
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