Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #185395 zu verkaufen

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ID: 185395
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Oxide etch system, 8" (2) Chambers Software Revision SBC Board Version V21 Mainframe cables Standard / Extended (length) STD Chamber Location A / B / C / D: A/B Safety Module EMO Switch(2): Present UPS & Power Vaccine Remote Frame Pump Control Interface: Present Circuit Breaker: Present EMO Switch: Present Expanded VME Monitor Rack CRT Monitor: Absent Light Pen: Absent Service Monitor Rack: Absent Miscellaneous Harddisk: Present Floppy Disk: Present Transformer: Present Gas Panel standard / Extended: Expanded Laminar Flow Hood Mainframe cover: Absent Loadlock Chamber Robot Type Phase III Robot: Phase III Type Robot Blade: 8 Inch Blade WPS: Installed TC Gauge: Installed ATM Switch: Installed Vacuum Switch: Installed Blade Chuck Vent Kit: Absent Vacuum Sensor(TC): Installed Storage Elv. Slots 8 or 29: 29 Wafer IO Sensor Present or Not: OK Electronics (BD) System Electronics TC guage boards(2): Installed +12 Vdc powersupply: Installed +15 Vdc powersupply: Installed -15 Vdc powersupply: Installed Buffer I/O board: Installed AI Mux board(1): Installed Optical sensor boards(*2ea): Installed Chopper driver boards (*4ea): Installed Pneumatic Control PCB: Installed Main DC Power Supply: Installed ESC Controller Board: Installed Chamber A CVD: OXIDE Chamber Type: MXP+ RF Match Box 0100-30686 Nv Module cesc: Yes Epd controller: Yes Gate valve: Yes Cap manometer 1: Mks 1Torr TC Gauge: Yes Isolation V/V: STD Throttle V/V Type: STD Slit V/V: STD Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB Turbo pump Controller: YES Chamber B: CVD: OXIDE Chamber Type: MXP+ RF Match Box 0100-30686 Nv Module cesc: Yes Epd controller: Yes Gate valve: Yes Cap manometer 1: Mks 1Torr TC Gauge: Yes Isolation V/V: STD Throttle V/V Type: STD Slit V/V: STD Endpoint module: Monocromator Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB Turbo pump Controller: YES Gas Interface PCB: Gas Panel Interface/Expanded Gas Panel PCB Solenoide V/V Module: STD/Expanded Air V/V: FUJIKIN Gas box A,B MFC UNIT - 8160: CHF3 100SCCM MFC UNIT - 8160: AR 200SCCM MFC UNIT - 8160: CF 50SCCM MFC UNIT - 8160: O2 10SCCM MFC UNIT - 8160: N2 100SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ist eine vielseitig einsetzbare CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für Forschung und Entwicklung in fortgeschrittenen Materialstrukturen und -geräten entwickelt wurde. Dieses System eignet sich für eine Vielzahl von F & E-Anwendungen, wie Verbundhalbleiter, Nanomaterialien, Übergitterbauelemente, einwandige Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähte und andere zweidimensionale Schichtmaterialien. AMAT P5000 MxP + umfasst zwei Kammern mit einer Vakuumsteuerung und einem spezialisierten Datenerfassungsmodul. Die Kammer ist so konzipiert, dass sie ausgezeichnete Qualität und konstante Leistung über eine breite Palette von Temperatur- und Druckeinstellungen bietet. Mit einem niedrigen Profil und ergonomischem Design verfügt APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache und effiziente Einrichtung ermöglicht. Das CVD-Verfahren an dieser Maschine basiert auf dem Prinzip, reaktive Gasmoleküle bei Druck und Temperatur auf ein Substrat zu sprudeln. Die Substrate werden auf eine vorbestimmte Temperatur erhitzt und das Reaktionsgas in die Kammer gebracht. Anschließend wird ein gesteuertes Gemisch mehrerer Gase in die Reaktionskammer eingespritzt, wo es eine kontrollierte chemische Umgebung für die Oberflächenreaktion bereitstellt. Der CVD-Prozess wird in Echtzeit überwacht und ein automatisiertes Werkzeug wird verwendet, um die Gasrate, Temperatur und Druck innerhalb der Kammer zu steuern. P5000 MxP + enthält eine fortschrittliche CVD-Temperaturregelung, um hochgeglühte Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit der Dicke bereitzustellen. Es ist auch mit einer Multiplexfunktion ausgestattet, die es ermöglicht, CVD-Prozesse in 8 parallelen Bahnen zu optimieren. Die Doppelkammer-Konstruktion sorgt für Flexibilität, sodass das Modell gleichzeitig CVD-Abscheidung, Oxidentfernung und andere Verarbeitung durchführen kann. Um einen zuverlässigen und wiederholbaren Abscheideprozess zu gewährleisten, verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine Überwachungs- und Steuerungseinrichtung mit integrierten Sicherheitsmerkmalen wie Überdruckschutz, Temperatursensor-Dauerkontrolle und Reaktionskammertemperaturalarm. Dieses System ist auch in der Lage, Proben kontinuierlich zu überwachen, Qualitätsänderungen zu erkennen und Betriebsparameter entsprechend anzupassen. AMAT P5000 MxP + ist eine leistungsstarke und zuverlässige CVD-Einheit für fortschrittliche Materialforschung und -entwicklung. Es bietet ausgezeichnete Leistung, Flexibilität und Genauigkeit in F & E-Anwendungen. Diese Maschine bietet ein modernes CVD-Temperaturkontrollwerkzeug, Multiplexfähigkeit und zuverlässige Überwachungs- und Steuerungsfunktionen, die einen konsistenten und zuverlässigen Abscheidungsprozess gewährleisten.
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