Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #185395 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 185395
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Oxide etch system, 8"
(2) Chambers
Software Revision SBC Board Version V21
Mainframe cables Standard / Extended (length) STD
Chamber Location A / B / C / D: A/B
Safety Module
EMO Switch(2): Present
UPS & Power Vaccine
Remote Frame
Pump Control Interface: Present
Circuit Breaker: Present
EMO Switch: Present
Expanded VME
Monitor Rack
CRT Monitor: Absent
Light Pen: Absent
Service Monitor Rack: Absent
Miscellaneous
Harddisk: Present
Floppy Disk: Present
Transformer: Present
Gas Panel standard / Extended: Expanded
Laminar Flow Hood
Mainframe cover: Absent
Loadlock Chamber
Robot Type Phase III Robot: Phase III Type
Robot Blade: 8 Inch Blade
WPS: Installed
TC Gauge: Installed
ATM Switch: Installed
Vacuum Switch: Installed
Blade Chuck Vent Kit: Absent
Vacuum Sensor(TC): Installed
Storage Elv. Slots 8 or 29: 29
Wafer IO Sensor Present or Not: OK
Electronics (BD)
System Electronics
TC guage boards(2): Installed
+12 Vdc powersupply: Installed
+15 Vdc powersupply: Installed
-15 Vdc powersupply: Installed
Buffer I/O board: Installed
AI Mux board(1): Installed
Optical sensor boards(*2ea): Installed
Chopper driver boards (*4ea): Installed
Pneumatic Control PCB: Installed
Main DC Power Supply: Installed
ESC Controller Board: Installed
Chamber A
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Chamber B:
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Endpoint module: Monocromator
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Gas Interface PCB: Gas Panel Interface/Expanded Gas Panel PCB
Solenoide V/V Module: STD/Expanded
Air V/V: FUJIKIN
Gas box A,B
MFC UNIT - 8160: CHF3 100SCCM
MFC UNIT - 8160: AR 200SCCM
MFC UNIT - 8160: CF 50SCCM
MFC UNIT - 8160: O2 10SCCM
MFC UNIT - 8160: N2 100SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ist eine vielseitig einsetzbare CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition), die für Forschung und Entwicklung in fortgeschrittenen Materialstrukturen und -geräten entwickelt wurde. Dieses System eignet sich für eine Vielzahl von F & E-Anwendungen, wie Verbundhalbleiter, Nanomaterialien, Übergitterbauelemente, einwandige Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähte und andere zweidimensionale Schichtmaterialien. AMAT P5000 MxP + umfasst zwei Kammern mit einer Vakuumsteuerung und einem spezialisierten Datenerfassungsmodul. Die Kammer ist so konzipiert, dass sie ausgezeichnete Qualität und konstante Leistung über eine breite Palette von Temperatur- und Druckeinstellungen bietet. Mit einem niedrigen Profil und ergonomischem Design verfügt APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache und effiziente Einrichtung ermöglicht. Das CVD-Verfahren an dieser Maschine basiert auf dem Prinzip, reaktive Gasmoleküle bei Druck und Temperatur auf ein Substrat zu sprudeln. Die Substrate werden auf eine vorbestimmte Temperatur erhitzt und das Reaktionsgas in die Kammer gebracht. Anschließend wird ein gesteuertes Gemisch mehrerer Gase in die Reaktionskammer eingespritzt, wo es eine kontrollierte chemische Umgebung für die Oberflächenreaktion bereitstellt. Der CVD-Prozess wird in Echtzeit überwacht und ein automatisiertes Werkzeug wird verwendet, um die Gasrate, Temperatur und Druck innerhalb der Kammer zu steuern. P5000 MxP + enthält eine fortschrittliche CVD-Temperaturregelung, um hochgeglühte Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit der Dicke bereitzustellen. Es ist auch mit einer Multiplexfunktion ausgestattet, die es ermöglicht, CVD-Prozesse in 8 parallelen Bahnen zu optimieren. Die Doppelkammer-Konstruktion sorgt für Flexibilität, sodass das Modell gleichzeitig CVD-Abscheidung, Oxidentfernung und andere Verarbeitung durchführen kann. Um einen zuverlässigen und wiederholbaren Abscheideprozess zu gewährleisten, verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine Überwachungs- und Steuerungseinrichtung mit integrierten Sicherheitsmerkmalen wie Überdruckschutz, Temperatursensor-Dauerkontrolle und Reaktionskammertemperaturalarm. Dieses System ist auch in der Lage, Proben kontinuierlich zu überwachen, Qualitätsänderungen zu erkennen und Betriebsparameter entsprechend anzupassen. AMAT P5000 MxP + ist eine leistungsstarke und zuverlässige CVD-Einheit für fortschrittliche Materialforschung und -entwicklung. Es bietet ausgezeichnete Leistung, Flexibilität und Genauigkeit in F & E-Anwendungen. Diese Maschine bietet ein modernes CVD-Temperaturkontrollwerkzeug, Multiplexfähigkeit und zuverlässige Überwachungs- und Steuerungsfunktionen, die einen konsistenten und zuverlässigen Abscheidungsprozess gewährleisten.
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