Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #186745 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor ist eine fortschrittliche physikalische Aufdampfkammer (PVD), die für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. AMAT P5000 MxP nutzt bahnbrechende Technologie, um überlegene Abscheidungsleistung zu bieten und den Waferdurchsatz und die Prozesssteuerung bei minimalem manuellen Eingriff zu maximieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 MxP ist mit einer leistungsstarken einzelnen Duschkopfquelle ausgestattet, die die gleichzeitige Lieferung von bis zu sechs separaten Materialquellen zum Substrat ermöglicht und gleichzeitig eine hervorragende Prozessgleichmäßigkeit gewährleistet. Die Kammer weist eine offene Ladekammerausführung auf, so dass die gesamte Bandbreite an Substraten, Formen und Größen untergebracht werden kann. Darüber hinaus verfügt die Kammer über einen Split-Level-Lift, der Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll leicht anhebt. Die fortschrittliche Prozesskontrollausrüstung von P5000 MxP sorgt für überlegene Prozesskontrolle und Einheitlichkeit. Mit seiner Mehrpunkt-Plasmasteuerung kann der Anwender bis zu acht verschiedene Gasquellen steuern, um eine präzise Plasmaumgebung zu erhalten. Darüber hinaus ermöglicht Prozessrezept-Management einfachen Zugriff, Lagerung oder Replikation von bis zu 100 Rezepten. Jeder Aspekt von AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ist auf den Benutzer abgestimmt. Zum Beispiel spült das Auto-Wasser-Spülsystem ständig die Hauptprozesskammer und sammelt und entfernt Partikel und Verunreinigungen, um eine optimale Leistung und partikelfreie Wafer zu gewährleisten. Die präzise Prozesssteuerung von AMAT P5000 MxP ermöglicht auch eine schnelle Charakterisierung von Leitern und Dielektrika sowie eine präzise Optimierung des Abscheideprozesses für verbesserte Ausbeuten. Für mehr Sicherheit und Prozessleistung verfügt APPLIED MATERIALS P5000 MxP über eine fortschrittliche Kantenleckage-Erkennungseinheit. Diese Maschine erkennt und zeigt Plasma-Leckage von der Kammerkante, die einen erhöhten Sicherheitsabstand bietet. Abschließend bietet P5000 MxP eine beispiellose Kombination aus Performance und Prozesskontrolle, die durch ein robustes und zuverlässiges Design unterstützt wird. Durch die Kombination aus fortschrittlicher Duschkopfquelle und schnellem Rezeptmanagement bietet AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP hervorragende Geschwindigkeit und Prozessgleichmäßigkeit für Wafer höchster Qualität.