Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9127952 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor ist ein vielseitiges und leistungsstarkes Bearbeitungswerkzeug, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Diese fortschrittliche Maschine wurde entwickelt, um chemische Dämpfe auf Substrate zu übertragen und so fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse zu ermöglichen. AMAT P5000 MxP Reactor ist mit einem fortschrittlichen und leistungsstarken Plasmagenerator ausgestattet, der über ein integriertes aktives Mikrodrahtarray und einen leistungsstarken 63-MHz-Hochfrequenzgenerator verfügt. Diese Kombination ermöglicht die präzise Steuerung von Ätz- und Abscheideprozessen über eine Vielzahl von Substratgrößen. Für die Abscheidung verwendet APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor fortschrittliche hochdichte Plasma (HDP) -Techniken, um einschichtige oder mehrschichtige Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, Schrittabdeckung und vertikalen Profilen abzuscheiden. Dieser vielseitige Reaktor arbeitet mit einer Vielzahl von Substraten und Folienmaterialien, wodurch eine breite Palette von Folien exakt abgeschieden werden kann. Zum Ätzen verwendet P5000 MxP Reactor einen einzigartigen Magnetmodus, um eine präzise Kontrolle über Ätzchemie und Ätzrate zu ermöglichen. Dieser Leistungsprozess macht komplizierte externe Vorspannsysteme überflüssig, da durch Magnetmodenätzen verbesserte vertikale Ätzprofile und eine verbesserte Formgleichförmigkeit erzielt werden. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor bietet mit seinen Prozessmodulen Flexibilität und Vielseitigkeit. Die Module sind so konzipiert, dass sie eine parallele Verarbeitung sowohl mit Ätz- als auch mit Abscheideprozessen ermöglichen und einen verbesserten Prozessdurchsatz bieten. Der modulare Aufbau ermöglicht es dem Anwender auch, Prozesse mit AMAT P5000 MxP zu kombinieren, sodass innovative Prozessschritte auf einer Plattform verfügbar sind. Darüber hinaus nutzt APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor ein umfangreiches Angebot an Substraten und Substratmaterialien. Dazu gehören ein- und doppelseitige Substrate in einem Durchmesserbereich von 2 Zoll bis 8 Zoll. Darüber hinaus unterstützt P5000 MxP-Reaktor auch verschiedene Substratmaterialien, darunter Siliciumdioxid, Aluminiumnitrid und Siliciumnitrid. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor ist ein leistungsfähiges und vielseitiges Prozesswerkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Seine einzigartigen Fähigkeiten, wie hochdichte Plasmaabscheidung und magnetische Modenätzung, bieten eine präzise Kontrolle über Ätz- und Abscheidungschemie und die Fähigkeit, eine breite Palette von Substraten und Filmmaterialien zu verarbeiten. Dadurch kann AMAT P5000 MxP Reactor die notwendige Prozessflexibilität und den erforderlichen Durchsatz für moderne Halbleiterherstellungsprozesse bieten.