Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9177952 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9177952
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
System, 8"
Chamber type Process
Ch-A: Mxp Metal etch
Ch-B: MxP Metal etch
Ch-C: ASP P/R Strip
Process kit Manometer
Ch-A: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-B: Metal STD 1 Torr/MKS
Ch-C: Qtz 10 Torr/MKS
Clean method Throttle valve
Ch-A: RF Clean Yes
Ch-B: RF Clean Yes
Ch-C: - Yes
Turbo pump Magnet driver
Ch-A: Yes Yes
Ch-B: Yes Yes
Gas box MFC Gas name
Ch-A: Yes -
Ch-B: Yes -
Ch-C: Yes -
VME Type:
HDD: Yes
Controller slot: (21) Slots
SBC Board type: SV21 Synagy
Boss rom ver: Boss 4.8
Video board type: VGA Video
FDD: 3.5"
Robot type: Phase III
Cassette handler: Phase III (top clamp)
Sto elevator type: (8) Slots
I/O Wafer sensor: Yes
WPS Sensor: Yes
L/Lock slow vent: Yes
Slit valve type: Standard
L/Lock purge: Yes
RF Gen I/II type RF Match
Ch-A: OEM 12A Phase VI
Ch-B: OEM 12A Phase VI
Ch-C: AX2115 Manual match
EPD: E2.8
Exhaust line: Top, standard
EPD Method: Monocrometer
Gas panel: (12) Gas lines
Monitor: TTW
Mini controller: No
H/E: AMAT 0
Chiller: NESLAB
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ist ein Reaktor, der entwickelt wurde, um eine fortschrittliche Hochleistungs-Dünnschichtabscheidung für die Herstellung hochwertiger, modernster Halbleiterprodukte bereitzustellen. Dieses Tool nutzt eine Hochvakuum- und In-situ-Temperaturerfassung, um Abscheidung und Verarbeitung zu erreichen. AMAT P5000 MxP + kann für eine Vielzahl von Abscheidungstechniken wie CVD, MOCVD und ALD verwendet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 MxP + ist mit einer Vakuumkammer, die mit hochpräzisen Linearlagern abgedichtet wird, und einer hochkraftgesteuerten indirekten Pumpanlage ausgelegt. Diese Konstruktion gewährleistet eine robuste und zuverlässige Vakuumqualität mit einem maximalen Kammerdruck von 1,33 x 10- 4 Torr. Der Reaktor weist auch einen Hochtemperaturbetriebsbereich mit Temperaturen bis 1000 ° C auf. Dies ermöglicht die Abscheidung hochwertiger und leistungsstarker Architekturen. Das System verfügt auch über eine fortschrittliche In-situ-Diagnoseeinheit, die eine zuverlässige Echtzeit-Überwachung des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Diese leistungsstarke Maschine ermöglicht die automatisierte Prozessentwicklung von Kontinuität und Gleichmäßigkeit. Dies ist ein großer Vorteil für jeden Kunden, der den Abscheideprozess optimieren möchte. P5000 MxP + wurde auch mit integrierten Sicherheitsfunktionen entwickelt, die das Auftreten gefährlicher Bedingungen verhindern. Dazu gehören Laserverriegelung, Prozessverriegelung und HF-Abschirmung. Das Verriegelungswerkzeug überwacht auch den Prozess, um sicherzustellen, dass die Kammerparameter unter den Sollwerten bleiben. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + eine anpassbare, integrierte Automatisierungssoftware, die die Anpassung der Prozesslogik und der Asset-Konfiguration ermöglicht. Diese Software verfügt über eine hervorragende benutzerfreundliche Oberfläche und bietet die Kontrolle über den Reaktor, ohne dass externe Programmierkenntnisse erforderlich sind. Insgesamt ist AMAT P5000 MxP + ein hochentwickeltes und robustes Reaktormodell, ideal für die Entwicklung modernster Halbleiterprodukte. Mit seinen Hochvakuumfähigkeiten, integrierter Temperaturerfassung, In-situ-Diagnosegeräten und verschiedenen Sicherheitsmaßnahmen bietet dieses System den Kunden die höchste Qualität, die sie in ihren Produkten wünschen.
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