Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9177952 zu verkaufen

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ID: 9177952
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
System, 8" Chamber type Process Ch-A: Mxp Metal etch Ch-B: MxP Metal etch Ch-C: ASP P/R Strip Process kit Manometer Ch-A: Metal STD 1 Torr/MKS Ch-B: Metal STD 1 Torr/MKS Ch-C: Qtz 10 Torr/MKS Clean method Throttle valve Ch-A: RF Clean Yes Ch-B: RF Clean Yes Ch-C: - Yes Turbo pump Magnet driver Ch-A: Yes Yes Ch-B: Yes Yes Gas box MFC Gas name Ch-A: Yes - Ch-B: Yes - Ch-C: Yes - VME Type: HDD: Yes Controller slot: (21) Slots SBC Board type: SV21 Synagy Boss rom ver: Boss 4.8 Video board type: VGA Video FDD: 3.5" Robot type: Phase III Cassette handler: Phase III (top clamp) Sto elevator type: (8) Slots I/O Wafer sensor: Yes WPS Sensor: Yes L/Lock slow vent: Yes Slit valve type: Standard L/Lock purge: Yes RF Gen I/II type RF Match Ch-A: OEM 12A Phase VI Ch-B: OEM 12A Phase VI Ch-C: AX2115 Manual match EPD: E2.8 Exhaust line: Top, standard EPD Method: Monocrometer Gas panel: (12) Gas lines Monitor: TTW Mini controller: No H/E: AMAT 0 Chiller: NESLAB 1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ist ein Reaktor, der entwickelt wurde, um eine fortschrittliche Hochleistungs-Dünnschichtabscheidung für die Herstellung hochwertiger, modernster Halbleiterprodukte bereitzustellen. Dieses Tool nutzt eine Hochvakuum- und In-situ-Temperaturerfassung, um Abscheidung und Verarbeitung zu erreichen. AMAT P5000 MxP + kann für eine Vielzahl von Abscheidungstechniken wie CVD, MOCVD und ALD verwendet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 MxP + ist mit einer Vakuumkammer, die mit hochpräzisen Linearlagern abgedichtet wird, und einer hochkraftgesteuerten indirekten Pumpanlage ausgelegt. Diese Konstruktion gewährleistet eine robuste und zuverlässige Vakuumqualität mit einem maximalen Kammerdruck von 1,33 x 10- 4 Torr. Der Reaktor weist auch einen Hochtemperaturbetriebsbereich mit Temperaturen bis 1000 ° C auf. Dies ermöglicht die Abscheidung hochwertiger und leistungsstarker Architekturen. Das System verfügt auch über eine fortschrittliche In-situ-Diagnoseeinheit, die eine zuverlässige Echtzeit-Überwachung des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Diese leistungsstarke Maschine ermöglicht die automatisierte Prozessentwicklung von Kontinuität und Gleichmäßigkeit. Dies ist ein großer Vorteil für jeden Kunden, der den Abscheideprozess optimieren möchte. P5000 MxP + wurde auch mit integrierten Sicherheitsfunktionen entwickelt, die das Auftreten gefährlicher Bedingungen verhindern. Dazu gehören Laserverriegelung, Prozessverriegelung und HF-Abschirmung. Das Verriegelungswerkzeug überwacht auch den Prozess, um sicherzustellen, dass die Kammerparameter unter den Sollwerten bleiben. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + eine anpassbare, integrierte Automatisierungssoftware, die die Anpassung der Prozesslogik und der Asset-Konfiguration ermöglicht. Diese Software verfügt über eine hervorragende benutzerfreundliche Oberfläche und bietet die Kontrolle über den Reaktor, ohne dass externe Programmierkenntnisse erforderlich sind. Insgesamt ist AMAT P5000 MxP + ein hochentwickeltes und robustes Reaktormodell, ideal für die Entwicklung modernster Halbleiterprodukte. Mit seinen Hochvakuumfähigkeiten, integrierter Temperaturerfassung, In-situ-Diagnosegeräten und verschiedenen Sicherheitsmaßnahmen bietet dieses System den Kunden die höchste Qualität, die sie in ihren Produkten wünschen.
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