Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9181328 zu verkaufen

ID: 9181328
Wafergröße: 8"
Poly chamber, 8" Chamber type: (3) MXP+ R2 Chamber ESC: Ceramic ESC (15) Slots storage Includes: HV Module Simple cathode RF Match Wall liner LID: SSGD Not included: Throttle VV Gate VV Turbo.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ist ein modularer Ätzreaktor, der für die Verarbeitung von fortschrittlichen VLSI- und Mikroelektronik-Geräten mit hohem Seitenverhältnis ausgelegt ist. Es ist für Foto- und High-Aspect-Ratio-Masken optimiert und verwendet eine Kombination aus konventionellen reaktiven Ionenätzen (RIE) und plasmainduzierten chemischen Aufdampfverfahren (PICVD). Diese Hybridkammer ermöglicht die Definition und Integration von Prozessrezepten in einem Gerät auf Geräteebene. Das MxP + ist ein Einzel-Wafer-System, das bis zu 150 mm Wafer unterstützt und ein Drei-Zonen-Design mit Gate, Haupt- und Vorderkammer hat. Die Gate-Kammer ist optimiert, um die Übergangszeit zwischen Vakuum und Nanoturbulenzmodus zu beschleunigen, während die Hauptkammer verwendet wird, um die reaktiven Ionen und Plasmaenergie zu liefern, um die Oberfläche des Wafers zu ätzen. Die Rückseite des Wafers wird dem Vorderkammerplasma ausgesetzt, um einen homogenen Ätzvorgang zu gewährleisten. AMAT P5000 MxP + ist für hochdichte Gerätefunktionsmuster konzipiert, die für die fortschrittlichsten Gerätedesigns erforderlich sind. Dies geschieht durch die Bereitstellung einer hochstabilisierten Prozessumgebung, einschließlich aktiver und passiver Umweltreinigungstechnologien. Der MxP + bietet auch schnelle Zykluszeiten und Prozesswiederholbarkeit, was höhere Durchsätze und Geräteausbeute ermöglicht. Das MxP + verwendet eine Kombination von Ätztechniken, einschließlich Ionenstrahlätzen, ionenverstärktem Plasmaätzen, Plasmaätzen hoher Dichte und Sputterätzen, wodurch eine Vielzahl von Substraten und Materialien geätzt werden können. Es ermöglicht auch das Ätzen von Metalldrähten mit minimalem Hinterschnitt oder Verbiegen. Um eine hohe Präzision und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, verfügt die Kammer über eine engere Prozesskontrolle über Druck und Temperatur und über vielseitige Energie- und Gasverteilungssysteme. Das MxP + verfügt zudem über eine einfach zu bedienende Rezeptentwicklungssoftware, die es Ingenieuren ermöglicht, mit minimalem Eingriff schnell maßgeschneiderte Rezepte zu erstellen. Die Rezepturmaschine passt auch automatisch die Prozesseinstellungen an und zeigt Echtzeitdaten wie Ätztiefe, Selektivität und Gleichmäßigkeit an. Darüber hinaus verfügt die Rezepturhersteller-Software über integrierte Sicherheitsvorkehrungen, um Qualität und Reproduzierbarkeit von Prozessparametern sicherzustellen. Abschließend ist APPLIED MATERIALS P5000 MxP + ein fortschrittliches Reaktorwerkzeug, das für die Verarbeitung von fortschrittlichen VLSI- und Mikroelektronik-Geräten mit hohem Seitenverhältnis entwickelt wurde. Es bietet eine Kombination von Ätztechniken und bietet beispiellose Präzision, Wiederholbarkeit und Durchsatzraten für Geräte mit hoher Dichte. Darüber hinaus verfügt es über eine automatisierte Rezeptentwicklung, die Ingenieuren die Flexibilität bietet, schnell und einfach hochgradig reproduzierbare Prozessrezepte zu erstellen.
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