Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9200091 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + Reaktor ist eine fortschrittliche Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Ausrüstung für die Halbleiterverarbeitung. Es ist eine Plattform der nächsten Generation zur Entwicklung und Herstellung von nanofabrizierten Materialien wie Dünnschichttransistoren (TFTs), Nanodrähten und anderen nanoskaligen Komponenten. Es eignet sich hervorragend für die fortschrittliche Integration von 3D-Geräten sowie für die Herstellung von hochqualitativen mikroelektronischen Geräten. Der AMAT P5000 MxP + -Reaktor verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die ihn zu einer attraktiven Lösung für die Halbleiterherstellung machen. Es verwendet fortschrittliche magnetisch verbesserte Plasma (MEP) -Technologie, die verbesserte Abscheidungsraten, Partikelgleichförmigkeit und Prozessgleichförmigkeit ermöglicht. Dadurch kann der Reaktor hochwertige Filme mit hervorragenden elektrischen, thermischen und chemischen Eigenschaften abscheiden. Darüber hinaus bietet der MxP + -Reaktor hohe Prozessausbeute, hohen Durchsatz und geringe Partikelverschmutzung und eignet sich somit ideal für die dreidimensionale Geräteintegration. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 MxP + -Reaktor ist mit einer Mehrkammeranordnung zur Co-Abhängigkeit unabhängiger Komponenten ausgestattet, die schnelle Reaktionen und eine effiziente Ressourcennutzung ermöglicht. Es ist voll kompatibel mit bestehenden thermischen und chemischen Steuerungssystemen und Optimierungssoftware. Dies ermöglicht mehrere thermische und chemische Kontrollpunkte während des Abscheidungsprozesses, die Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Ergebnisse gewährleisten. Darüber hinaus ist der MxP + -Reaktor mit fortschrittlichen Hochfrequenz- und Magnetfeld-Steuerungssystemen kompatibel. Dies ermöglicht eine präzise Regelung des Plasmazustandes und der Substrattemperatur für eine konsistentere, reproduzierbare Leistung. P5000 MxP + -Reaktor verfügt über ein automatisiertes Prozessüberwachungssystem, mit dem Bediener die Prozessleistung verfolgen und erforderlichenfalls Anpassungen vornehmen können. Das Gerät bietet Echtzeit-Datenerfassung und -analyse, die Filmabscheidungsraten, Gleichmäßigkeit und Qualität optimieren. Darüber hinaus kann der MxP + -Reaktor ferngesteuert werden, mit automatisierten und manuellen Steuerungsoptionen, die eine schnelle und kostengünstige Fertigung ermöglichen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + Reaktor eine fortschrittliche plasmaverbesserte chemische Aufdampfmaschine, die sich für hochempfindliche, hochleistungsfähige Logik- und Speichergeräte eignet. Es bietet verbesserte Abscheidungsraten, Gleichmäßigkeit und Partikelverunreinigung und ermöglicht zuverlässigere, reproduzierbare Ergebnisse. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften ist dieser Reaktor eine ideale Lösung für fortschrittliche 3D-Bauelementintegration und Halbleiterherstellung.