Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9202876 zu verkaufen

ID: 9202876
Wafergröße: 8"
Poly etcher, 8" (2) Chambers.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MXP + ist ein für Hochleistungshalbleiterherstellungsprozesse entworfener Reaktor der nächsten Generation. Es ist eine Mehrkammer-, Mehrgas-, reaktive Ionenätz- (RIE) -Ausrüstung, die in der Lage ist, Substrate verschiedener Größen, Formen und Materialien in einer reduzierten Zykluszeit zu verarbeiten. AMAT P5000 MxP + kann mehrere Prozesse gleichzeitig abwickeln. Dies wird durch eine effiziente Systemarchitektur und ihre Fähigkeit erreicht, bis zu vier Prozesskammern, Gaskrümmer und Lastschlösser unterzubringen. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine automatisierte Waferübertragungseinheit mit einem Roboterarm, der einen schnellen Substrattransport ermöglicht. P5000 MxP + soll eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglichen, so dass Anwender komplexe Strukturen mit verbesserter Prozessrobustheit herstellen können. Es verwendet eine breite Palette von Ätz- und Abscheidungsprozessen, wie tiefe und flache reaktive Ionenätzung (DRIE und SRIE), chemische Dampfabscheidung (CVD), thermische chemische Dampfabscheidung (TCVD), Atomschichtabscheidung (ALD) und Atomschichtätzen (Atomic Layer etching). Dies ermöglicht die kundenspezifische Konstruktion von Strukturen und Materialien für leistungsstarke mikro/nanoelektronische Geräte. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Controller und Überwachungssysteme, einschließlich Prozesskontrolle und Statusüberwachung, Gasflussregler, Sicherheits- und Kammerüberwachungssysteme, Vakuummonitore und einem automatisierten Wafer-Integritätsmonitor. Diese ermöglichen es dem Bediener, Prozessparameter in Echtzeit zu überwachen und anzupassen, was eine optimale Prozesssteuerung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das High-Tech-Design von AMAT P5000 MxP + eine verbesserte Gesamtmaschineneffizienz, einschließlich reduzierter Heiz- und Kühlzeiten, verbesserter Quelllebensdauer und Prozessgleichmäßigkeit. Darüber hinaus ist das Werkzeug kompatibel mit mehreren Zubehörteilen, wie Plasmasensoren, stationären und rotatorischen Massenstromreglern, Temperaturregelgeräten, Manometern, Vakuumsystemen und Temperaturregelelementen. Schließlich verfügt APPLIED MATERIALS P5000 MxP + über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine schnelle und einfache Prozesseinrichtung und -programmierung ermöglicht. Dies macht das Gut zu einer wünschenswerten Wahl für Unternehmen, die fortschrittliche Prozesstechniken für ihre Halbleiterherstellungsprozesse anwenden möchten.
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