Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9218919 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP
ID: 9218919
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ist ein Reaktor für plasmabasierte Ätz- und Abscheidungsanwendungen. Es verfügt über eine flexible, weiträumige HF-Quelle und eine integrierte Faraday-Abschirmung, die den Betrieb über einen weiten Bereich von Frequenzen, Drücken und Ladekonfigurationen ermöglicht. Das Gerät bietet unabhängig voneinander einstellbare Gasleitungen zur präzisen Steuerung von Ätz- und Dotierstoffgasen und verwendet ein integriertes Vakuumpumpsystem zur präzisen Kammerdruckregelung. Es bietet auch einen umfassenden Satz von Plasma-Diagnostik, einschließlich einer Langmuir-Sonde, optische Emissionsspektroskopie, Online-Wafer-Mapping, und Plasma-basierte Quelle Leistungsfrequenz Spektroskopie. Alle notwendigen Kompatibilitätsupgrades, einschließlich Computerausrüstung, Vor-Ort-Wartung und Ersatzteile sind im Unternehmen erhältlich. AMAT P5000 MxP ist sowohl für traditionelle Ätz- und Abscheidungsprozesse als auch für fortgeschrittenere Plasmaprozesse wie Atomschichtabscheidung und Ionenimplantation konzipiert. Die flexible Konfiguration der Einheit ermöglicht das Ätzen und Abscheiden einer Vielzahl von Materialien, darunter Oxide, Nitride, Dielektrika und Metalle. Seine große Kammergröße und räumliche Homogenität machen APPLIED MATERIALS P5000 MxP für eine Reihe von Prozessen geeignet, darunter Hochgeschwindigkeitsabscheidungen und feinabgestellte Ätzoperationen. P5000 MxP ist als schlüsselfertiges Prozesssystem konzipiert und komplett für den Betrieb ausgestattet. Es umfasst einen integrierten Missionsprozessor, der automatisierte Prozessrezepte behandelt, die Plasmaparameter und die Waferbelastung einrichtet und verwaltet. Darüber hinaus bietet es Prozessüberwachungs- und Diagnosetools, um eine möglichst hohe Gleichmäßigkeit und Erträge zu gewährleisten. Die Plasmaenergiequelle kann auf einen Bereich von Frequenzen, Drücken und einfachen und komplexen Belastungen eingestellt werden und deckt eine breite Palette von Materialien und Verarbeitungsrezepten ab. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP wurde entwickelt, um zuverlässige Plasmaätz- und Abscheidungsleistung bei gleichbleibender Langzeitprozessstabilität und Ausbeute zu bieten. Das Gerät kann einfach konfiguriert, gewartet und gewartet werden, da es komplett mit allem notwendigen Zubehör, Software und Wartungswerkzeugen ausgestattet ist. Darüber hinaus gewährleisten die integrierten Diagnosetechnologien für Plasma und Wafer die größtmögliche Ausbeute und Prozessgleichförmigkeit auf großen Flächen. Zusammenfassend ist AMAT P5000 MxP ein Großraumprozesssystem, das für plasmabasierte Ätz- und Abscheidungsprozesse konzipiert ist, die mit einer Vielzahl von Materialien kompatibel sind. Seine robuste Konstruktion und integrierte Diagnosetechnologien machen es ideal für Operationen mit Hochgeschwindigkeitsabscheidung, feinabgestuftem Ätzen und atomarer Schichtabscheidung.
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