Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226621 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP ist ein Metallmusterreaktor, der für den Einsatz in photolithographischen Prozessen der Halbleiterbauelementherstellung entwickelt wurde. Der Reaktor nutzt die neuesten Innovationen in Plasmaätz- und Abscheidungssystemen, um hervorragende Ergebnisse bei der Herstellung von hohen Seitenverhältnissen und einheitlichen Metallstrukturen zu erzielen. Der Reaktor bietet eine Auswahl von zwei Plasmaquellentypen - induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) und kapazitiv gekoppeltes Plasma (CCP) -, um Anwendern die Auswahl des besten Ätzprozesses für ihre spezifische Anwendung zu ermöglichen. Es verwendet auch eine Titan-Sublimationsquelle, die das Ätzen von strukturierten geschichteten Hartmasken ermöglicht. AMAT P5000 MxP verfügt über eine patentierte RF-Matching-Technologie, um die bestmögliche Plasmaprozesssteuerung und -wiederholbarkeit zu gewährleisten. Der Reaktor ist auch mit fortschrittlichen Plasma-Gleichmäßigkeits- und Endpunkt-Erkennungsfunktionen ausgestattet, um das Prozessfenster zu verbessern und präzise und wiederholbare Ergebnisse zu ermöglichen. Das Innovative Reticle Kit des Reaktors ermöglicht es Benutzern auch, verschiedene Maskengrößen, Formen und Linienbreiten zu verwenden sowie Funktionen wie Blind Vias, Gräben und nivellierte Funktionen zu nutzen. Zu den fortschrittlichen Eigenschaften des Reaktors gehören ein chemisch-mechanisches Polieren (CMP), das eine präzise Kontaktmusterung und Ätztiefe gewährleistet, ein automatisiertes Retikelübertragungssystem und ein Gaskoaleszierungssystem, das eine gleichmäßige Gaszufuhr gewährleistet. Der Reaktor ist auch mit anderen benutzerfreundlichen Funktionen ausgestattet, einschließlich einer einfachen Benutzeroberfläche und grafischen Farbdisplays, um sicherzustellen, dass seine Verwendung einfach, intuitiv und effizient ist. Zum Schluß ist APPLIED MATERIALS P5000 MxP ein hochmoderner Produktionsreaktor, der auf laserscharfe Leistung bei der Herstellung komplexer Strukturen ausgelegt ist. Seine einzigartige Kombination aus fortschrittlichen Plasmaquellen, Prozesskontrolle und Einheitlichkeit und benutzerfreundlichen Funktionen machen es zu einer vielseitigen, kostengünstigen Lösung für die Geräteherstellung.