Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 WCVD #9289562 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 WCVD (Chemical Vapor Deposition) Reaktor ist ein vielseitiges, durchsatzstarkes, metallverstärktes Ultrahochvakuum-Abscheidungssystem. Dieses erweiterte Tool bietet eine Vielzahl von Funktionen, die es zu einem nützlichen Werkzeug für viele verschiedene Anwendungen machen. AMAT P5000 WCVD Reactor bietet mit seinen automatisierten Filmwachstumsmerkmalen hohe Durchsatzabscheidungsraten zu den schnellsten Abscheidezeiten. Anwender können zwischen einzelnen, mehreren oder maßgeschneiderten Zonen mit bis zu vier Waferplänen für präzises, wiederholbares Filmwachstum wählen. Die P5000 unterstützt auch eine Reihe von Abscheidungsfähigkeiten, einschließlich Ätzen, metallverstärkte Abscheidung (einschließlich Tantalnitrid, Titannitrid und Wolframcarbid), und konforme Abscheidung für Materialien wie Siliciumnitrid und Aluminiumoxid. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 WCVD Reaktor enthält auch eine breite Palette von Fähigkeiten für die Nachbearbeitung, einschließlich Kapillarreinigung für Nanomanufacturing und Niedertemperaturglühen für die Herstellung von kontaktfreien Oberflächen. Dies kann es zu einem großartigen Werkzeug für die Herstellung von Halbleitern und ICs machen. Darüber hinaus ist P5000 WCVD-Reaktor mit einer robusten, benutzerfreundlichen Bedienoberfläche mit Touchscreen-Technologie ausgestattet. Die intuitive Benutzeroberfläche des Systems macht es einfach zu navigieren und zu bedienen, auch für unerfahrene Benutzer. Benutzer können auch Verlaufsdateien übertragen, auf Remotekommunikation zugreifen und Prozessbedingungen über eine sichere und bequeme Verbindung festlegen. Das P5000 umfasst auch erweiterte Diagnosefunktionen, die eine vorausschauende Wartung und Prozessoptimierung ermöglichen. AMAT P 5000 WCVD Reactor ist ideal für diejenigen, die die neuesten Abscheidungstechnologien in ihrem Prozess benötigen. Dieses fortschrittliche Abscheidewerkzeug bietet ausgezeichnete Abscheideraten und schnelle Abscheidezeiten, was es zu einer idealen Wahl für hochreine Filme, Funktionen mit hohem Seitenverhältnis und ultrapräzise Strukturen in hochleistungsfähigen mikroelektronischen Komponenten macht. Von Halbleitern und ICs bis hin zu MEMS und Photovoltaik-Anwendungen ist P 5000 WCVD Reactor ein unverzichtbares Werkzeug für diejenigen, die das effizienteste verfügbare Hochdurchsatz-Abscheidungssystem benötigen.