Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115356 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein vollautomatischer 300mm Einzel-Wafer-Reaktor, der eine präzise Niederdruck-CVD-Technologie (Chemical Vapor Deposition) bietet. Dieses Werkzeug besteht aus mehreren Bauteilen und Untereinheiten, darunter einer Umgebungskammer, einer Prozesskammer, einer Transferkammer und einem Ofen. Die Umgebungskammer ist einer der Hauptbestandteile dieses Reaktors. Es ist mit einem HEPA-Luftfilter versiegelt, um sicherzustellen, dass die Umgebung im Reaktor sauber ist. Die Kammer beherbergt einen Hochgeschwindigkeits-Roboterarm, der dann zur Übertragung des Wafers von und zur Transferkammer sowie zur präzisen Steuerung der Ausrichtung des Wafers dient. Die Prozesskammer ist dort, wo der Prozess der chemischen Dampfabscheidung (CVD) stattfindet. Diese Kammer ist mit zwei CVD-Reaktoren ausgestattet, die hohe Temperaturen und präzise niedrige Drücke verwenden, um eine dünne Materialschicht auf den Wafer abzuscheiden. Die Temperatur innerhalb der Prozesskammer kann präzise gesteuert werden und gewährleistet eine gleichmäßige Abscheidung über den gesamten Wafer. Die Transferkammer ist eine große vakuumdichte Kammer, die den Transferroboter aufnimmt, der den Wafer von der Umgebungskammer zur Prozesskammer bewegt. Diese Kammer soll sicherstellen, dass der Wafer während des Übergabevorgangs sicher und kontaminationsfrei bleibt. Der Ofen ist ein Hochtemperaturofen, mit dem der Wafer vor und nach dem CVD-Prozess gebacken wird. Dieser erhitzte Ofen hilft, die Haftung des abgeschiedenen Materials auf dem Wafer zu verbessern und hilft auch bei der gleichmäßigen Abscheidung. AMAT P-5000 verfügt zudem über ein fortschrittliches Computerüberwachungssystem, das eine präzise Steuerung und Überwachung der aktuellen Parameter und Temperaturen während der Abscheidung ermöglicht. Dieses Computerüberwachungssystem ermöglicht es Benutzern auch, Rezepte zu speichern und abzurufen sowie interne und externe Temperaturen zu überwachen. Insgesamt, ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Reaktor ist entworfen, um präzise Niederdruck chemische Dampfabscheidung (CVD) von Materialien auf Wafern mit gleichmäßiger Abscheidung und gleichmäßigem Gewicht durchzuführen. Dieses Werkzeug ist mit mehreren verschiedenen Komponenten ausgestattet, einschließlich einer Umgebungskammer, einer Prozesskammer, einer Transferkammer und einem Ofen, die zusammenwirken, um eine saubere, kontaminationsfreie Umgebung für eine saubere, präzise Abscheidung zu gewährleisten.