Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115991 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 115991
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1991
MXP Etcher, 6"
(3) Chambers
Mainframe type: Mark II
I/O Wafer sensor: No
Installation: Stand alone
Expanded VME: Yes
Mini-Controller: Yes
Phase 3 robot: Yes
Phase 3 cassette handler: Yes
Storage elevator: (8) Slots
Cassette platform: Standard
Wafer orienter: No
L/L Chamber bolt down lid: No
L/L Particle reduction kit: No
Gas panel:
MFC Unit UFC-1100A
Gas panel type:
Twelve lines main: No
Twenty-Eight line onboard: No
Standard gas panel (28 line capability): Yes
Remote gas panel: No
Chamber A:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber C:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber D:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Process application:
Chamber A: Etch MxP
Chamber C: Etch MxP
Chamber D: Etch MxP
System electronics:
Slot # Description
1 Mini SBC
2 SBC
3 SEI
4 MIZER: No
5 AI
6 AO
7 Video
8 AO
9 AI
10 Stepper
11 Stepper
12 Stepper
13 Stepper
14 DI/DO
15 DI/DO
16 DI/DO
17 DI/DO
18 DI/DO: No
19 DI/DO: No
20 DIO: No
Floppy drive 3.5
Chambers A, C and D:
Chamber type (Specify Mark II, MxP+, CVD or other): MxP
Lid type (Specify STD, EGEC, BDEC, Uni-Lid or other): STD
Chamber rough line
Chamber airline
Chamber interconnect PCB
Heat exchanger QD fitting
NESLAB facilities plumbing
Slit valve assembly
Remington hinge slit valve
Backing pump circuit breaker
RF Generator power outlet
RF Generator circuit breaker
Magnet driver (If present, Rev#)
Lamp driver (If present, Rev#): No
RF Match
Turbo controller
Turbo flow meter: No
Turbo pump / Controller type Turbolink NT340M: Leybold
Gate valve: No
Chamber vent valve
Remote frame:
Primary pump frame: No
Secondary pump frame: No
Stacked remote frame: Yes
Stacked remote frame contents: AMAT (3) RF Generators
(1) Heat exchanger
Type of hose fittings: QDC
RF Generators:
Chamber A: ENI 12A
Chamber C: ENI 12A
Chamber D: ENI 12A
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochmoderner Reaktor auf Plasmabasis zum Ätzen und Abscheiden von Materialien zur Herstellung elektronischer Geräte. Dieser Reaktor ist bekannt für seine kostengünstigen und leistungsstarken Fähigkeiten. Der Reaktor verwendet eine hochdichte Plasmaausrüstung aus hochfrequenten elektrischen Feldern, die für Präzisionsätzen und Abscheiden sorgen können. Durch diesen Prozess können Merkmale mit extrem hoher Präzision präzise hergestellt werden. Darüber hinaus ist AMAT P-5000 auch mit einem spezialisierten Hochtemperatur-Subsystem ausgestattet, das höhere Abscheideraten und konforme Abscheidung ermöglicht, was hilft, die Materialgleichförmigkeit zu erhöhen und die Abscheide- und Ätzzeit zu reduzieren, was die Effizienz des Prozesses deutlich erhöht. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor bietet auch dynamische Gassteuerung und homogene Planarisierung durch die Integration eines fortschrittlichen High-Density-Plasmasystems. Dadurch ergibt sich eine im Wesentlichen überlegene Gleichmäßigkeit in Schichten zwischen 4-100 nm mit einer genauen Dickengleichmäßigkeit von +/- 5%. Dies hilft, die Ätzrate genau zu steuern und eine konsistente Selektivität auf Abscheidungsebene zu erreichen. Darüber hinaus verfügt diese Einheit über die Fähigkeit, bis zu 400 W Ionendichte und 40 mT Plasmagleichförmigkeit zu erreichen, was einen überlegenen Ätzprozess und eine überlegene Temperaturregelung ermöglicht. Hinsichtlich des Durchsatzes ist der AMAT P 5000 Reaktor deutlich schneller als herkömmliche Reaktorsysteme mit maximalen Abscheideraten bis 30 um/min. Dies hilft, die Produktionszeit und -kosten zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine spezielle Computerschnittstelle, die es dem Anwender ermöglicht, verschiedene Prozessparameter und Rezepte für die Herstellung verschiedener Komponenten einfach zu nutzen. Insgesamt ist P-5000 ein fortschrittlicher Reaktor auf Plasmabasis, der kostengünstige und leistungsstarke Funktionen zum Ätzen und Abscheiden von Materialien bietet. Dieses Werkzeug ist bekannt für seine überlegene Gleichmäßigkeit und Genauigkeit in Bezug auf Dicke, Ionendichte und Selektivität während der Abscheidung. Darüber hinaus ermöglicht die verbesserte Durchsatz- und Computerschnittstelle dem Anwender die einfache Herstellung von Komponenten mit spezifischen Anforderungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor