Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist eine epitaktische Abscheidung und Planarisierung Ausrüstung für fortgeschrittene Halbleiterbauelementherstellung entwickelt. AMAT P-5000 Reaktor bietet eine Einkammer-Lösung, die eine zuverlässige und genaue Abscheidung von epitaktischen Materialien für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen ermöglicht. ANWENDUNGSMATERIALIEN Der P 5000 Reaktor ist mit einer 400 mm Suszeptor-Plattform ausgestattet, die einen 5-Zonen-Mehrzonenregler zur präzisen Temperaturregelung bietet. Das Substrat wird durch Hochgeschwindigkeits-unabhängige elektrische Suszeptor-Spulen erwärmt, die sich unterhalb der Kammerunterfläche befinden. Die Suszeptor-Plattform ist auch für die gleichzeitige Aufnahme von bis zu 24 Wafern ausgelegt. Der patentierte Liner-Spring (TM) -Endeffektor des AMAT P 5000 beherbergt Substrate jeder Art und Größe, wodurch der Endeffektor nicht ersetzt werden muss, um verschiedene Substrate unterzubringen. Der AMAT P5000 Reaktor bietet auch eine benutzerfreundliche programmierbare Software und eine Reihe von Funktionen zur Steigerung der Produktivität, einschließlich automatischer Druckregelung, Fehlerüberwachung und Flachplatten-Vakuumgasen. Das System ist auch mit einer Reihe von Abscheidungsquellen, einschließlich einer Kombination Anreicherung/Element-Quelle und fünf elementaren Quellen, die konfiguriert werden können, um verschiedene Arten von Abscheidung zur Verfügung zu stellen gebaut. ANWENDUNGSMATERIALIEN P5000 Reaktor verfügt auch über fortschrittliche Gaszufuhrkomponenten, einschließlich eines Quellgasmassenstromreglers (MFC), gereinigte Ein- und Auslassgasströme, Spülkrümmer und separate Katalysatoren für jede Quelle. Darüber hinaus ist P5000 Reaktor mit einer mehrstufigen Turbomolekularpumpeneinheit ausgestattet, die den hohen Betriebsanforderungen der Halbleiterbauelementabscheidung gerecht wird. Die Maschine wurde mit einer Kombination aus fortschrittlichen Quellen und einer Vielzahl fortschrittlicher Materialverarbeitungstechnologien entwickelt, um eine ultrasaubere Prozessatmosphäre zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 kommt auch mit einer zusätzlichen Kammer namens „Air-Stream“ Kammer. Dies ermöglicht eine zusätzliche Quelle zur Abscheidung fortschrittlicher Materialien für die Gerätebearbeitung mit einem möglichst hohen Durchsatz. Der Luftstrom ermöglicht die Wiederaufladung von Quellen direkt in der Kammer anstatt außerhalb dieser und die Gasleitungen zum Reaktor können aufgrund der getrennten Kammerbauweise leicht gespült werden. P 5000 Reaktor bietet komplette Werkzeugintegration, die höchste Zuverlässigkeit und Kontrolle gewährleistet. Ein optionales Datenerfassungs-Asset ermöglicht zusätzliche Datenerfassungs- und Analysetools, während ein präventives Wartungs-Modell eine optimale Geräteleistung gewährleistet. P-5000 Reaktor ist ein vielseitiges, zuverlässiges System für die Herstellung jedes fortschrittlichen Halbleiterbauelements.