Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #131577 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor zur Abscheidung von Filmmustern auf Substraten. Das Gerät kann die strukturierte Folie für eine Vielzahl von Anwendungen wie Thin Film Transistor (TFT) Displays und MEMS (mikroelektromechanische Systeme) präzise und zuverlässig reproduzieren. AMAT P-5000 ist ein Single-Wafer-Prozessor, der sich ideal für die Produktion mit hohen Erträgen und schnellen Zyklusraten eignet. ANWENDUNGSMATERIALIEN Der PECVD-Reaktor P 5000 ist mit neun Kammern ausgestattet, die jeweils bis zu 200 Prozesse pro Stunde bedienen können. Es gibt drei Kammern zur Abscheidung von Siliziumoxiden, Nitriden und a-Si: H für Dünnschichttransistoranwendungen. Zusätzlich enthält AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 drei Kammern zur speziellen Abscheidung wie Siliziumnitrid und Siliziumoxid-Nitrid-Oxid (SiON). Die Kammeranordnung bietet eine effiziente Lösung für die gleichzeitige Abscheidung mehrerer Materialien. Die in P-5000 PECVD-Reaktor eingesetzten Chemikalien sind auf die spezifische Anwendung zugeschnitten und in speziellen Chemikalienspeichern untergebracht. Die Prozesskammer ist in der Lage, Temperaturen von bis zu 425 ° C zu steuern und zu halten, was eine Feinabstimmung der Abscheidungsdicke und Bildung nanoskaliger Merkmale ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 verwendet eine Reihe verschiedener Gase, wie Stickstoff, Chlor und Wasserstoff, wodurch dünne Filmstrukturen mit minimaler Kontamination abgeschieden werden können. AMAT P5000 verfügt zudem über verschiedene Sicherheitsmerkmale und automatisierte Wartungsfunktionen, die einen sicheren und effizienten Betrieb bei minimalen Prozessausfallzeiten gewährleisten. Um die genaue Lieferung von Chemikalien für eine konsistente und qualitativ hochwertige Waferproduktion zu gewährleisten, wird ein fortschrittliches Durchflusskontrollsystem implementiert. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine vollautomatische Onboard-Kalibrier- und Testeinheit, mit der die Integrität aller Prozessschritte gewährleistet werden kann. P5000 PECVD-Reaktor ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für die zuverlässige Abscheidung von strukturierten Folienstrukturen. Unter Verwendung bewährter Techniken kann die Einheit verwendet werden, um eine breite Palette von Materialien mit hoher Präzision abzuscheiden, wodurch überlegene Dünnschichtstrukturen mit einer minimalen Verarbeitungszeit bereitgestellt werden. Die robuste Konstruktion, die automatisierten Funktionen und Sicherheitssysteme machen die Maschine zu einer idealen Wahl für die Waferbearbeitung.