Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #131584 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Abscheidungswerkzeug auf Basis des physikalischen Bedampfungsprozesses (PVD). Das Werkzeug ist so konzipiert, dass dünne Materialschichten auf jedes geeignete Substrat aufgebracht werden, wodurch eine Heterostruktur dünner Schichten mit präziser Kontrolle der Dicke, Zusammensetzung und Dotierung für Halbleiter, Energiespeicher und andere innovative Anforderungen an die Herstellung von Bauelementen entsteht. Der AMAT- P-5000-Reaktor verwendet eine Ultrahochvakuumumgebung, um feste Quellmaterialien wie Metall, Keramik und Dielektrikum in Form von Tiegeln, Quellen und anderen Speisekomponenten zu verdampfen. Nach dem Entdampfen und Ionisieren werden die Quellenmaterialien durch ein elektrisches Hochspannungsfeld beschleunigt und in einem exakten stöchiometrischen Verhältnis auf jeder thermisch stabilen Substratoberfläche abgeschieden. Die Prozesstemperatur des Werkzeugs variiert von Raumtemperatur bis 900 ° C, eine Temperatur, die mit einem thermoelektrischen Kühler (TEC) einstellbar ist, um eine präzise und gleichmäßige Filmabscheidung über die gesamte Substratoberfläche zu erreichen. Die höchste erreichbare Abscheiderate beträgt 2 Nanometer (nm) pro Sekunde. Neben einer hohen Prozessreproduzierbarkeit und Abscheiderate verfügt das Werkzeug über eine trennbare Kammer, um den Austausch oder die Wartung von Teilen während des ablaufenden Abscheidungsprozesses zu erleichtern, ohne dass es zu unerwünschten Auswirkungen auf den dünnen Film kommt. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist in der Lage, nanoskalige Architekturen auf der Oberfläche des Substrats durch eine Reihe verschiedener Abscheidungstechniken wie plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD), Sputtern und E-Strahl-Verdampfung zu erzeugen. Es ist auch möglich, Quellpartikel und Verunreinigungen zu reduzieren, um saubere, gleichmäßige Schichten mit geringer Defektdichte, hoher Haftung und überlegener Oberflächengleichförmigkeit für verschiedenste Anwendungen zu schaffen. Darüber hinaus ist P 5000 mit einem vielseitigen Prozessregler ausgestattet, der eine einfache Manipulation von Prozessparametern zur präzisen Steuerung von Foliendicke, Zusammensetzung und Dotierung ermöglicht. Das Tool ermöglicht es Anwendern auch, das Wachstum von dünnen Filmen in Echtzeit zu überwachen. Darüber hinaus können mit zahlreichen Datenerfassungs- und Analysemethoden relevante Eigenschaften aus dem Werkzeug extrahiert und der Prozess für höhere Ausbeute und Effizienz optimiert werden. Abschließend ist AMAT P 5000 ein ausgezeichnetes Abscheidungswerkzeug, das die Dünnschichtabscheidung mit einer präzisen Kontrolle der Struktur und Eigenschaften der Dünnschichtschichten erleichtert. Durch den Einsatz einer Vielzahl von Abscheidetechniken gewährleistet das Werkzeug eine hohe Reproduzierbarkeit und Gleichmäßigkeit, die auf zahlreiche Anwendungen in der materialwissenschaftlichen Forschung sowie der Halbleiterbauelementherstellung angewendet werden kann.